[实用新型]一种打磨装置有效
| 申请号: | 201920541392.0 | 申请日: | 2019-04-19 |
| 公开(公告)号: | CN210010809U | 公开(公告)日: | 2020-02-04 |
| 发明(设计)人: | 陈湘伟;程岂鲁;李永;代长智 | 申请(专利权)人: | 江苏协鑫硅材料科技发展有限公司 |
| 主分类号: | B24B27/00 | 分类号: | B24B27/00;B24B41/00;B24B51/00 |
| 代理公司: | 44224 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人: | 唐清凯;闫晓欣 |
| 地址: | 221004 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 打磨砂轮 挡件 工位 控制传输 相邻工位 打磨 压力调节组件 本实用新型 表面杂质 打磨装置 调节组件 检测开关 检测信息 接收检测 均匀一致 前后位置 传输带 进给量 可调节 有压力 加工 保证 传输 配置 | ||
本实用新型涉及一种打磨装置,包括:设置有多个工位的传输带,每个工位具有挡件,相邻工位的挡件之间的距离定义为A;多组打磨砂轮组,与多个工位一一对应,相邻两打磨砂轮组之间的距离定义为B,其中B=A,其中每组打磨砂轮组还配置有压力调节组件;检测开关,用以感应被传输的工件;控制单元,用以接收检测开关的检测信息以控制传输带的速度。相邻工位的挡件之间的距离等于相邻两打磨砂轮组之间的距离,使每一个工件同时被打磨的前后位置相同,压力调节组件可调节打磨砂轮组的进给量,通过控制单元控制传输带速度,以适应不同加工深度的需求,从而能保证加工后的工件的表面杂质的深度基本均匀一致,同时保证各工件的打磨质量。
技术领域
本实用新型涉及晶硅太阳能中铸锭工艺的生产领域,具体涉及一种可分区加工不同深度的晶硅循环料的打磨装置。
背景技术
目前光伏行业技术路线中晶硅铸锭工艺是重要生产环节之一,产量巨大。在晶硅铸锭工艺生产过程中需要将铸锭后的硅锭进行切割成小方锭,同时产生边长循环料和头尾循环料,由于这二种循环硅料的外表面杂质含量过高必须经过打磨、化学清洗等多个工序处理后才能当硅原料循环使用。其中打磨工序是利用砂轮磨削方式将循环硅料中硅锭与石英坩埚接触面富含杂质的部位去除。
目前打磨工序大多采用人工打磨或机械设备打磨方式。人工打磨方式由于劳动强度大,工作环境恶劣,打磨深度浅,打磨质量难以保证等原因已逐步被机械设备所取代。传统的打磨设备采用多组打磨砂轮组错位分列打磨方式。打磨过程中延传输带行走方向工件打磨加工的深度基本一致。
经检测头尾循环料杂质在表面的深度和密集度分布基本均匀,传统打磨加工方式基本可以满足加工需求。但对如图1和图2所示的工件40(边皮循环料)而言,不同区域杂质分布的深度和密集度有较大差别,在边皮循环料较薄的头部区域410杂质分布较浅,密集度低,在后部区域420杂质分布的较深,密集度高,传统打磨装置无法保证打磨质量。
实用新型内容
基于此,有必要针对无法保证边皮循环料的打磨质量的问题,提供一种打磨装置。
一种打磨装置,包括:
用于输送工件的传输带,所述传输带上沿其传输方向设置有多个用以定位工件的工位,每个工位具有固定于所述传输带的挡件,相邻工位的挡件之间的距离定义为A;
多组打磨砂轮组,沿传输带的传输方向排列,并与多个所述工位一一对应以构成多组的打磨机构,相邻两打磨砂轮组之间的距离定义为B,其中B=A,其中每组打磨砂轮组还配置有压力调节组件,所述压力调节组件与所述打磨砂轮组连接,用以带动所述打磨砂轮组相对所述传输带运动;
检测开关,设置在传输带的一侧,用以感应被传输的工件;
控制单元,用以接收所述检测开关的检测信息以控制传输带的速度。
上述打磨装置,相邻工位的挡件之间的距离等于相邻两打磨砂轮组之间的距离,使每一个工件同时被打磨的前后位置相同,这样再利用利用压力调节组件调节打磨砂轮组的进给量从而调整打磨砂轮组给予工件的压力,使打磨砂轮组始终能保持对工件的有效打磨,再通过控制单元控制传输带速度,以适应不同加工深度的需求,从而能够实现对不同区域能进行不同深度的加工,工件表面杂质的深度基本均匀一致,同时保证各工件的打磨质量。
在其中一个实施例中,所述压力调节组件与控制单元电气连接,由所述控制单元控制工作。
在其中一个实施例中,所述压力调节组件包括驱动打磨砂轮组移动的气缸、液压缸、电缸或电动推杆,所述控制单元为PLC控制单元。
在其中一个实施例中,所述打磨装置还包括分别设置在其中一组打磨砂轮组的前端和后端的前高度传感器、后高度传感器,所述前高度传感器和后高度传感器均用以检测在传输带上的工件厚度,并发送给控制单元,所述控制单元根据接收到工件厚度信息控制压力调节组件工作。
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