[实用新型]冷阱灌液氮装置及冷阱

说明书

本实用新型涉及半导体加工工艺的冷却设备技术领域，公开了一种冷阱灌液氮装置及冷阱，具体的，冷阱灌液氮装置包括漏斗、气液分离器、三通阀以及回流水管；三通阀的三个阀口分别为高位阀口、中位阀口以及低位阀口，高位阀口与漏斗的出口连通，中位阀口与气液分离器连通，低位阀口与回流水管连通。本实用新型避免了灌装液氮时，液氮将冷凝水冻成冰，堵住气液分离器的情况，保证了气液分离器的正常运行。

技术领域

本实用新型涉及半导体加工工艺的冷却设备技术领域，尤其是涉及一种冷阱灌液氮装置，以及包括该冷阱灌液氮装置的冷阱。

背景技术

冷阱是半导体生产工艺中经常用到的设备，广泛应用在半导体生产工艺的蒸发工序中。冷阱中一般通过手动灌装液氮来提升冷阱中冷泵性能。

现有冷阱的液氮系统中当液氮不足产生水时，往往积攒在气液分离器中，当操作者再次灌液氮时气液分离器中的水遇到液氮会速冻成冰，将气液分离器堵住，导致液氮无法流入冷阱中。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种冷阱灌液氮装置，以解决现有技术中存在的上述的冷阱液氮系统的气液分离器容易被堵住的技术问题。

本实用新型的目的还在于提供一种冷阱，以解决现有技术中存在的上述的冷阱液氮系统的气液分离器容易被堵住的技术问题。

基于上述第一目的，本实用新型提供了一种冷阱灌液氮装置，所述灌液氮装置包括漏斗、气液分离器、三通阀以及回流水管；

所述三通阀的三个阀口分别为高位阀口、中位阀口以及低位阀口，所述高位阀口与所述漏斗的出口连通，所述中位阀口与所述气液分离器连通，所述低位阀口与所述回流水管连通；

所述气液分离器的设置高度低于所述漏斗的出口位置，所述回流水管的设置高度低于所述气液分离器的设置高度；所述气液分离器能够与冷阱连通；

向冷阱内灌装液氮时，高位阀口、中位阀口打开，低位阀口关闭；冷阱液氮灌装完成时，中位阀口、低位阀口打开，冷凝水通过中位阀口、低位阀口流入所述回流水管。

进一步地，所述灌液氮装置还包括液氮法兰，所述气液分离器通过液氮法兰与所述冷阱连通并固定。

进一步地，所述灌液氮装置还包括排气管，所述排气管与所述气液分离器连通。

进一步地，所述排气管远离所述气液分离器的一端连接有弯头，所述弯头的出气口的朝向避开灌装液氮时的操作位。

进一步地，所述漏斗包括柱形段和连接在所述柱形段下部的倒锥形段；所述漏斗的进口设置在所述柱形段的顶部，所述漏斗的出口设置在所述倒锥形段的底部顶角位置。

进一步地，所述柱形段的顶部对应所述漏斗的进口设置有旋转盖，所述旋转盖上设置有缺口；

所述旋转盖能够绕垂直于漏斗轴向的转轴转动，所述旋转盖转动到所述缺口与所述柱形段的侧壁对接时，所述漏斗的进口打开。

进一步地，所述漏斗内设置有过滤网。

进一步地，所述漏斗内设置有向下倾斜的隔板，所述隔板的上端与所述漏斗的一侧侧壁连接，且所述隔板的下端与漏斗的侧壁间隔设置。

进一步地，所述漏斗的侧壁的外周上设置有固定板。

基于上述第二目的，本实用新型还提供了一种冷阱，所述冷阱上设置有本实用新型提供的冷阱灌液氮装置。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果为：