[实用新型]一种新型真空磁控溅射镀膜机

说明书

本实用新型公开了一种新型真空磁控溅射镀膜机，包括壳体，所述壳体的开口处通过阻尼铰链活动安装有密封门，所述密封门的边侧固定安装有密封条，所述密封门的外侧固定安装有门把，所述密封门上固定安装有观察窗，所述壳体的外侧固定安装有PLC控制器，且排气口延伸至壳体内部，并且排气口上固定安装有阀门，所述壳体通过粉末导管与粉末导入装置相互连接。该新型真空磁控溅射镀膜机，采用双开密封门，在密封门之间设置有密封条，提高整体的密封性，在壳体内部设置有旋转台，在镀膜过程中，通过驱动电机带动旋转台旋转，镀膜更加均匀，同时旋转台上设置有可调节的连接杆，能够根据工件的大小对连接杆之间的间距进行调节。

技术领域

本实用新型涉及镀膜设备技术领域，具体为一种新型真空磁控溅射镀膜机。

背景技术

真空磁控溅射镀膜机是一种在真空环境下对基片进行镀膜设备，其利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

现如今的真空磁控溅射镀膜机真空抽取速度慢，延长了加工的时间，降低了加工的效率，且传统镀膜机内部的工件固定架为不可调节的，不能够针对工件的大小，对工件固定架之间的间距进行调节，导致过大的工件镀膜不均匀，对整体的外观造成影响。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种新型真空磁控溅射镀膜机，以解决上述背景技术中提出现如今的真空磁控溅射镀膜机真空抽取速度慢，延长了加工的时间，降低了加工的效率，且传统镀膜机内部的工件固定架为不可调节的，不能够针对工件的大小，对工件固定架之间的间距进行调节，导致过大的工件镀膜不均匀，对整体的外观造成影响的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种新型真空磁控溅射镀膜机，包括壳体，所述壳体的开口处通过阻尼铰链活动安装有密封门，所述密封门的边侧固定安装有密封条，所述密封门的外侧固定安装有门把，所述密封门上固定安装有观察窗，所述壳体的外侧固定安装有PLC控制器，所述PLC控制器的下侧设置有真空仪表，所述壳体的底端固定安装有机架，所述壳体的底端还固定安装有排气口，且排气口延伸至壳体内部，并且排气口上固定安装有阀门，所述壳体内部的底端活动安装有下旋转台，所述下旋转台上开设有滑槽，所述滑槽内活动安装有连接杆，所述连接杆的上端活动安装有上旋转台，所述连接杆的外侧固定安装有工件固定架，所述连接杆的外侧还固定安装有限位环，所述限位环位于滑槽的外侧，所述连接杆的下端活动安装有螺帽，所述壳体底端的中间固定安装有驱动电机，所述驱动电机的输出轴延伸至壳体内部与下旋转台的底端固定连接，所述上旋转台的中间开设有通槽，所述壳体的上端固定安装有极靶，且极靶延伸至壳体内部并穿过通槽，所述壳体通过抽气管与真空泵相互连接，所述壳体通过粉末导管与粉末导入装置相互连接。

优选的，所述壳体的开口处对称设置有两个密封门，且两个密封门与壳体构成圆柱状。

优选的，所述密封门上均固定安装有密封条、门把和观察窗，且密封门处于关闭状态时，两个密封门上的密封条相贴合。

优选的，所述PLC控制器与驱动电机、极靶、真空泵和粉末导入装置电性连接。

优选的，所述下旋转台和上旋转台上下垂直分布，且下旋转台和上旋转台上均开设有环形的滑槽，滑槽的宽度与连接杆的直径相同。

优选的，所述连接杆外侧限位环的直径大于滑槽的宽度，且工件固定架等间距分布在连接杆的外侧。

优选的，所述真空泵在壳体的两侧对称设置有两个。