[实用新型]一种新型真空磁控溅射镀膜机

权利要求书

1.一种新型真空磁控溅射镀膜机，包括壳体(1)，其特征在于：所述壳体(1)的开口处通过阻尼铰链(2)活动安装有密封门(3)，所述密封门(3)的边侧固定安装有密封条(4)，所述密封门(3)的外侧固定安装有门把(5)，所述密封门(3)上固定安装有观察窗(6)，所述壳体(1)的外侧固定安装有PLC控制器(7)，所述PLC控制器(7)的下侧设置有真空仪表(25)，所述壳体(1)的底端固定安装有机架(8)，所述壳体(1)的底端还固定安装有排气口(9)，且排气口(9)延伸至壳体(1)内部，并且排气口(9)上固定安装有阀门(10)，所述壳体(1)内部的底端活动安装有下旋转台(11)，所述下旋转台(11)上开设有滑槽(12)，所述滑槽(12)内活动安装有连接杆(13)，所述连接杆(13)的上端活动安装有上旋转台(14)，所述连接杆(13)的外侧固定安装有工件固定架(15)，所述连接杆(13)的外侧还固定安装有限位环(16)，所述限位环(16)位于滑槽(12)的外侧，所述连接杆(13)的下端活动安装有螺帽(18)，所述壳体(1)底端的中间固定安装有驱动电机(19)，所述驱动电机(19)的输出轴延伸至壳体(1)内部与下旋转台(11)的底端固定连接，所述上旋转台(14)的中间开设有通槽(17)，所述壳体(1)的上端固定安装有极靶(20)，且极靶(20)延伸至壳体(1)内部并穿过通槽(17)，所述壳体(1)通过抽气管(22)与真空泵(21)相互连接，所述壳体(1)通过粉末导管(24)与粉末导入装置(23)相互连接。

2.根据权利要求1所述的一种新型真空磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述壳体(1)的开口处对称设置有两个密封门(3)，且两个密封门(3)与壳体(1)构成圆柱状。

3.根据权利要求1所述的一种新型真空磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述密封门(3)上均固定安装有密封条(4)、门把(5)和观察窗(6)，且密封门(3)处于关闭状态时，两个密封门(3)上的密封条(4)相贴合。

4.根据权利要求1所述的一种新型真空磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述PLC控制器(7)与驱动电机(19)、极靶(20)、真空泵(21)和粉末导入装置(23)电性连接。

5.根据权利要求1所述的一种新型真空磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述下旋转台(11)和上旋转台(14)上下垂直分布，且下旋转台(11)和上旋转台(14)上均开设有环形的滑槽(12)，滑槽(12)的宽度与连接杆(13)的直径相同。

6.根据权利要求1所述的一种新型真空磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述连接杆(13)外侧限位环(16)的直径大于滑槽(12)的宽度，且工件固定架(15)等间距分布在连接杆(13)的外侧。

7.根据权利要求1所述的一种新型真空磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述真空泵(21)在壳体(1)的两侧对称设置有两个。