[实用新型]一种基于QMEMS工艺的压电石英频率片腐蚀机有效
申请号: | 201920245577.7 | 申请日: | 2019-02-27 |
公开(公告)号: | CN208776585U | 公开(公告)日: | 2019-04-23 |
发明(设计)人: | 竹文坤;李辉;龙利;陆旺 | 申请(专利权)人: | 西南科技大学 |
主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00;H03H3/04 |
代理公司: | 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 | 代理人: | 贾晓燕 |
地址: | 621010 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 旋转平台 压电石英 频率片 腐蚀槽 喷淋清洗池 升降电机 石英晶片 本实用新型 浸泡清洗池 腐蚀机 壳体 安装支架 对称安装 壳体上部 支架安装 腐蚀液 高频率 晶片篮 清洗槽 旋转轴 伸入 下端 制备 精密 清洗 储存 腐蚀 加工 | ||
本实用新型公开了一种基于QMEMS工艺的压电石英频率片腐蚀机,包括:壳体;旋转平台,其通过安装支架安装于壳体底部;用于储存腐蚀液的腐蚀槽,其设置在旋转平台上;用于清洗石英晶片的喷淋清洗池和浸泡清洗池,其设置在旋转平台上;喷淋清洗池和腐蚀槽对称安装于旋转平台旋转轴两侧,浸泡清洗池位于腐蚀槽和喷淋清洗池另一侧;位于壳体上部的升降电机,其下端通过支架安装有放置石英晶片的晶片篮,升降电机位于旋转平台的上方,通过升降电机将可石英晶片伸入腐蚀槽或清洗槽。本实用新型提高了压电石英频率片制备效率,同时满足了加工压电石英频率片小型化、精密化的要求,可以使厚度更薄、更高频率的压电石英频率片受到均匀腐蚀。
技术领域
本实用新型涉及一种压电石英频率片腐蚀机,更具体地说是涉及一种基于QMEMS工艺的基于QMEMS工艺的压电石英频率片腐蚀机。
背景技术
石英谐振频率片是所有频率控制器件(滤波器、振荡器等)的核心部件。通过将石英谐振频率片封装后,可以制造各类石英谐振器产品用于频率源和时间基准以及接收系统的频率控制器件。
随着无线通讯向5G网络方向发展,势必晶体谐振器的制造工艺也提出了挑战。5G要实现:低功耗、高速度、低时延、万物互联。石英晶振在通信设备中有着很关键的作用,广泛使用于各种需要时间显示以及时间控制产品中,因此随着5G网络的研发和推广,石英晶振也需要达成其新需求。5G需要更高频的石英晶振,意味着晶体振荡器中的石英晶片厚度会变的越来越薄,而传统制造工艺已经接近工艺极限,如基频超过80MHz(晶片的厚度为0.02mm)的石英谐振频率片很难加工,为开发高基频石英频率片需要更先进的工艺和技术。
为了得到尺寸更小、厚度更薄、更高频率的石英谐振频率片,对传统的晶片腐蚀工艺和滚磨工艺提出了更高挑战。
现有压电石英频率片腐蚀机在制备尺寸更小、厚度更薄、频率更高的压电石英频率片时,存在腐蚀晶片不均匀、腐蚀清洗不高效的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种基于QMEMS工艺的压电石英频率片腐蚀机,解决压电石英频率片腐蚀工艺存在的上述问题。
本实用新型是通过以下技术方案实现的:
一种用于制备新型压电石英频率片的腐蚀机,包括:
壳体;
旋转平台,其通过安装支架安装于所述壳体底部;
用于储存腐蚀液的腐蚀槽,其设置在旋转平台上;
用于清洗石英晶片的喷淋清洗池,喷淋清洗池具有喷头,喷淋清洗池设置在旋转平台上且所述喷淋清洗池和腐蚀槽对称安装于旋转平台旋转轴两侧;
浸泡清洗池,其位于腐蚀槽和喷淋清洗池中心轴连线另一侧;
位于壳体上部的升降电机,其下端安装有放置石英晶片的晶片篮,晶片篮与升降电机通过支架连接,所述升降电机位于旋转平台的上方,且通过升降电机将石英晶片伸入腐蚀槽或浸泡清洗池、喷淋清洗池。优选的是,其中,所述腐蚀槽底部设有腐蚀液加热装置,用于给腐蚀液加热。
优选的是,其中,所述旋转平台下部设有支架,所述支架上方安装有旋转轴,旋转平台可被电机驱动绕旋转轴旋转。这样可使腐蚀完成的石英晶片及时放入喷淋清洗池中清洗,提高了石英晶片的制备效率。
优选的是,其中,所述壳体内部安装有温度控制器、时间控制器和频率监控仪。其中,所述温度控制器通过数据线分别与升降电机、时间控制器和频率监控仪连接,所述时间控制器通过数据线与频率监控仪连接,所述频率监控仪通过数据线与升降电机连接。
优选的是,其中,所述腐蚀槽内部安装有温度探头,所述温度探头通过数据线与温度控制器连接。
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