[实用新型]晶圆处理设备

权利要求书

1.一种晶圆处理设备，其特征在于，包括一机械手以及机械手清洗装置，其中，所述机械手清洗装置包括：

清洗容器，所述清洗容器具有一允许机械手进出的开口；

供气单元，包括至少一个气体输入端和至少一个气体输出端，分别连通至所述清洗容器，所述气体输入端用于向所述清洗容器内通入气体，所述气体输出端用于排出所述清洗容器内的气体；

供液单元，包括至少一个液体输入端和至少一个液体输出端，分别连通至所述清洗容器，所述液体输入端用于向所述清洗容器内通入液体，所述液体输出端用于排出所述清洗容器内的液体。

2.根据权利要求1所述的晶圆处理设备，其特征在于，所述供气单元包括一个气体输入端和一个气体输出端，所述气体输入端用于连接至氮气源。

3.根据权利要求1所述的晶圆处理设备，其特征在于，所述供液单元包括一个液体输入端和一个液体输出端，所述液体输入端用于连接至去离子水源。

4.根据权利要求1所述的晶圆处理设备，其特征在于，所述清洗容器内设置有传感单元，用于检测是否有机械手进入所述清洗容器内；所述传感单元包括传感器。

5.根据权利要求4所述的晶圆处理设备，其特征在于，所述开口设置于所述清洗容器的顶部，所述传感器设置于所述清洗容器的底部，与所述开口位置相对。

6.根据权利要求5所述的晶圆处理设备，其特征在于，所述传感器为光学传感器。

7.根据权利要求4所述的晶圆处理设备，其特征在于，所述气体输入端、气体输入端、液体输入端和液体输出端均设置有阀门；所述机械手清洗装置还包括一控制器，连接所述传感单元和所述阀门，用于根据所述传感单元输出的检测信号控制各个阀门的开关状态。

8.根据权利要求7所述的晶圆处理设备，其特征在于，所述控制器被设置为：在所述传感器检测到机械手进入所述清洗容器内时，开启所述液体输入端阀门，通过所述液体输入端向所述清洗容器内通入清洗液，对所述机械手进行清洗；在清洗一段时间后，开启液体输出端阀门，排出所述清洗液；再开启所述气体输入端阀门，向所述清洗容器内通入干燥气体，用于对机械手进行干燥；在干燥一段时间后，开启所述气体输出端阀门，排出干燥气体。

9.根据权利要求1所述的晶圆处理设备，其特征在于，所述机械手清洗装置还包括超声波单元，设置于所述清洗容器内，用于在清洗容器内通入清洗液后，产生超声波，使液体发生振动。

10.根据权利要求1所述的晶圆处理设备，其特征在于，还包括一机械臂，所述机械手连接至所述机械臂，由所述机械臂控制所述机械手的运动，所述机械臂被设置为将机械手送入所述清洗容器内后，控制所述机械手进行旋转。