[实用新型]一种无掩膜光刻机的激光均匀性调制装置

说明书

本实用新型公开了一种无掩膜光刻机的激光均匀性调制装置，属于光刻机领域，其技术方案要点是，一种无掩膜光刻机的激光均匀性调制装置，包括激光调节头和调节手柄，所述激光调节头的输出端连接有激光传输头，所述激光传输头的输出端连接有聚焦头；通过温度传感器可实时监测激光传输头的温度，在进行光刻时，高压气体始终作用在光刻部位，高压气体将光刻部位表面的灰尘吹离，使得光刻的精度及质量进一步提高，同时高压气体通过连接管输送至冷却管，通过冷却管对激光传输头进行持续降温，且高压气体通过环形管上的气体喷口喷出，可将激光雕刻产生的烟尘吹离，保证激光的通过性，降低激光能量的损耗。

技术领域

本实用新型涉及光刻机领域，特别涉及一种无掩膜光刻机的激光均匀性调制装置。

背景技术

光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等，光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。

现有的技术存在以下问题：

1、现有的无掩膜光刻机的激光均匀性调制装置均无清除灰尘装置，在进行光刻时，光刻部位的细微灰尘及杂质，导致光刻的深度及范围发生变化，严重影响光刻的精度及质量。

2、现有的无掩膜光刻机的激光均匀性调制装置均无清除烟尘装置，在进行光刻时，光刻部位会产生烟尘，烟尘飘散遮挡激光的路径，导致激光的能将降低，影响光刻质量。

实用新型内容

本实用新型提供一种无掩膜光刻机的激光均匀性调制装置，旨在解决现有的灰尘阻挡及烟尘降低激光能量的问题。

本实用新型是这样实现的，一种无掩膜光刻机的激光均匀性调制装置，包括激光调节头和调节手柄，所述激光调节头的输出端连接有激光传输头，所述激光传输头的输出端连接有聚焦头，所述调节手柄连接于所述激光传输头的侧壁，包括温度传感器和连接座，所述温度传感器固定连接于所述激光传输头的外壁，所述连接座固定连接于所述激光调节头的外壁，所述连接座的出气端固定连接有输送管，所述输送管的另一端固定连接有高速喷头，所述连接座的出气端固定连接有连接管，所述激光传输头的夹层内绕设有冷却管，所述连接管与所述冷却管的一端固定连接，所述激光传输头的外壁底端固定连接有环形管，所述冷却管的出气端与所述环形管的进气端固定连接，所述温度传感器与光刻机控制器信号连接，所述温度传感器与外部电源电性连接。

优选的，所述连接座的侧壁固定连接有开关，所述连接座的顶端固定连接有输气管。

优选的，所述输送管位于所述连接座的底端，且所述输送管可进行角度调节。

优选的，所述连接管位于所述连接座的一侧，且所述连接管、所述冷却管和所述环形管的材质均为铜。

优选的，所述冷却管绕设与所述激光传输头的夹层靠近所述聚焦头的位置处，且所述冷却管的顶端位于所述调节手柄的下方。

优选的，所述温度传感器固定连接于所述激光传输头设有所述冷却管一端的外壁。

优选的，所述环形管的外壁开设有气体喷口，所述气体喷口的数量为若干个均匀分布在所述环形管的一周。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、在激光的作用下，调制装置工作时会产生大量的热，通过温度传感器可实时监测激光传输头的温度，并进行信号转化传输至光刻机的控制中心，在进行光刻时，通过调整输送管，将高速喷头对准光刻部位，高压气体始终作用在光刻部位，高压气体将光刻部位表面的灰尘吹离，使得光刻的精度及质量进一步提高。

2、在设备进行光刻工作时，同时高压气体通过连接管输送至冷却管，通过冷却管对激光传输头进行持续降温，且高压气体通过环形管上的气体喷口喷出，可将激光雕刻产生的烟尘吹离，保证激光的通过性，降低激光能量的损耗。