[实用新型]硅胶片的表面改质装置

说明书

本实用新型提供一种硅胶片的表面改质装置，用于针对复数硅胶片进行改质作业，包含至少一腔体、至少一改质结构及至少一输送带。改质结构为长条状且具有一长轴而设于腔体内，用于发射紫外线，输送带设于腔体内并位于改质结构的一侧，供以承载呈间隔排列的该些硅胶片，其中，输送带的运转移动方向平行改质结构的长轴，由此透过输送带运转使该些硅胶片依序接收紫外线照射，使各硅胶片的行进路径皆相同而可接收相等的紫外线照射量，进而提升该些硅胶片的表面改质良率。

技术领域

本实用新型涉及一种硅胶片的表面改质装置。

背景技术

实务上，受限于材料特性限制，若需要因应使用范畴而调整对象的特性，除了寻找以及开发替代材料之外，另一可行的方式即为针对既有材料利用改质处理来提升所需效能。改质处理视欲改质材料的种类来选择对应的改质处理方法，例如电浆改质处理、化学处理、物理涂层或电化学处理等方式，由此来改变材料表面提高其耐蚀、耐磨、防水、防污或着色性等。而为提升处理效率，除了针对部分具有极大体积或面积的对象外，一般会采同时对大量对象一并进行改质处理的方式来执行制程。

然而，无论选择何种改质处理方法，需要考虑的因素众多，除了须使被改质的材料达到所需效能外，在改质制程中让每一对象能够接收到均匀且相等的改质处理强度，也是影响改质良率的一相当重要的要件。因此，如何开发与设计对应的制程机构或方法，以提升经过改质制程后的对象良率，实为目前相关厂商亟需解决的课题之一。

有鉴于此，本发明人集结从事相关行业之丰富经验，遂而构思并提出一种硅胶片的表面改质装置，以针对为硅胶材料种类之对象，执行具备高良率之改质制程。

实用新型内容

本实用新型的一目的，旨在提供一种硅胶片的表面改质装置，其易于控制制程质量，使每一硅胶片可具有均等的改质效果，进而大幅提升硅胶片的产品良率。

为达上述目的，本实用新型于一实施方式揭露一种硅胶片的表面改质装置，用于针对复数硅胶片进行改质作业，包含：至少一腔体；至少一改质结构，为长条状且具有一长轴而设于该腔体内，用于发射紫外线；及至少一输送带，设于该腔体内并位于该改质结构的一侧，用于承载呈间隔排列的该些硅胶片，其中，该输送带的运转移动方向平行该改质结构的该长轴，由此透过该输送带运转使该些硅胶片依序接收紫外线照射，进而提升该些硅胶片的表面改质良率。由此，透过输送带的运转移动设置，即可确保各硅胶片得以接收均等的紫外线照射量，而具备统一的改质结果，消除改质后产品质量参差不齐的问题。

基于前述实施方式，于再一实施方式中，该腔体内设有复数个该改质结构时，该些改质结构为平行排列，该输送带为延续的S型结构而具有至少一回转部，且该回转部位于任二相邻的该改质结构之间，以使该些硅胶片经过任一该改质结构后转向移往另一该改质结构续以接收紫外线。由此，该些硅胶片即可透过输送带的回转部顺利地逐一前往各改质结构处接受紫外线照射，进而制成符合所需的硅胶片产品。

于另一实施方式中则提出，该腔体内设有复数个该改质结构及复数个该输送带时，该些改质结构及该些输送带分别为平行排列设置且相互对应，该腔体外侧或内侧设有至少一回转装置，且该回转装置的一端与任一该输送带的一输出端对应设置，该回转装置的另一端则与下一个该输送带的一送入端对应设置，以使该些硅胶片经过任一该改质结构后转向移往另一该改质结构续以接收紫外线。由此，透过设于腔体外侧的回转装置，除可移载硅胶片前往各改质结构处外，于改质作业中也可随时检测硅胶片状态，以维持改质制程质量。

较佳地，于次一实施方式中揭示该回转装置为倾斜状履带结构，且该回转装置高度较低的端与任一该输送带的该输出端对应设置，以承接由该输送带落下的该些硅胶片，该回转装置高度较高的端与另一该输送带的该送入端对应设置，以使该输送带承接该些硅胶片，其中该回转装置的最大高度大于该输送带的设置高度，该回转装置的最小高度小于该输送带的设置高度。由此，硅胶片可透过履带的爬升带动完成移载动作，使硅胶片可稳定地由任一改质结构移往另一改质结构。