[发明专利]一种提升熔覆层性能的激光处理方法

权利要求书

1.一种提升熔覆层性能的激光处理方法，其特征在于具有如下步骤：

步骤一，预处理：对金属基体表面磨抛和清洗，用去污剂除去表面油污；

步骤二，将步骤一得到的金属基体放在激光熔覆加工平台上，设定激光扫描工艺路径和铺粉尺寸参数，对金属基体表面添加熔覆粉末进行激光熔覆加工得到所需构件；

步骤三，将步骤二中熔覆成形好的构件置于纳秒光纤激光器加工平台上，设定重熔参数和加工路径进行激光重熔实验，待重熔完成后进行成品检测，合格即可使用。

2.根据权利要求1所述的一种提升熔覆层性能的激光处理方法，其特征在于，所述步骤二熔覆粉末的粒度为95～110目，质量百分数组成：C为0.1％～0.5％，Cr为10％～30％，Si为0.5％～2％，Ni为1％～3％，Mn为0.2％～1％，Mo为0.5％～2％，余量为Fe。

3.根据权利要求1所述的一种提升熔覆层性能的激光处理方法，其特征在于，所述步骤二熔覆粉末质量百分数组成：C为0.5％～1.0％，Cr为10％～30％，B为0.5％～2％，Si为0.5％～2％，Ni为1％～3％，Mn为0.1％～0.2％，Mo为0.5％～2％，余量为Fe。

4.根据权利要求1所述的一种提升熔覆层性能的激光处理方法，其特征在于，所述步骤二熔覆粉末质量百分数组成：C为0.5％～1.0％，Cr为10％～30％，B为0.5％～2％，Si为0.5％～2％，Ni为1％～3％，Mn为0.1％～0.2％，Mo为0.5％～2％，V为0.1％～0.5％余量为Fe。

5.根据权利要求1所述的一种提升熔覆层性能的激光处理方法，其特征在于，步骤三所述的激光重熔平台处于室温下氩气气氛。

6.根据权利要求1所述的一种提升熔覆层性能的激光处理方法，其特征在于，步骤三所述的激光重熔参数：

激光功率P，200W≤P≤300W；

激光扫描速度V，250mm/s≤V≤350mm/s；

光斑直径φ，50μm≤φ≤100μm；

搭接率为J，40％≤J≤60％。

7.根据权利要求1所述的一种提升熔覆层性能的激光处理方法，其特征在于，步骤三所述的激光加工路径为“弓”字型。