[发明专利]过滤储液装置

说明书

本发明提供了一种过滤储液装置，包括：槽体，其用于容纳化学液；溢流栏，其用于将槽体分隔为第一分槽和第二分槽；溢流栏的高度低于槽体的高度；第一分槽中的化学液通过溢流栏的顶部溢流至第二分槽；回液管路，其连接第一分槽，用于回收化学液并将化学液输送至第一分槽；供液管路，其连接第二分槽，用于从第二分槽向用液设备供给化学液。本发明通过引入由溢流栏分隔的槽体，当化学液从溢流栏的顶部溢流时，颗粒污染物因重力作用自发下沉而被去除，从而得到洁净的化学液。本发明的过滤储液装置能够有效去除循环化学液中的颗粒污染物，其实施和维护过程方便易行，减少了设备过滤器的负荷，能够有效降低设备维护成本。

技术领域

本发明涉及半导体制造设备领域，特别是涉及一种过滤储液装置。

背景技术

在半导体工艺中，通常会涉及到化学液的循环使用。用于清洗或抛光等工艺的化学液在经过在用液设备的工艺腔中使用后，统一收集回流至专门的储液槽中储存，并由储液槽再次向用液设备进行供液。化学液在储液槽和工艺腔之间循环流动，从而实现对化学液的循环利用。

化学液在工艺腔中使用后经常会有颗粒污染物掺杂在回收的化学液中，尤其是微小颗粒，其粒径通常为5～10μm。此类颗粒污染物对晶圆表面的沾污将影响正常的工艺过程，甚至造成晶圆良率下降。因此，对于循环使用的化学液，相应的过滤净化过程是不可或缺的。

然而，在现有设备中，使用后的化学液一般在重力作用下由工艺腔自行回流至储液槽。如采用在回流管路上加装过滤器的方案，则在过滤器使用一段时间后，随着过滤器中的过滤层所截留的颗粒物增加，其对于化学液流动的阻力将随之增加，这将影响化学液回流至储液槽的流速。另一方面，如果储液槽所提供的化学液颗粒污染物浓度过高，仅依靠用液设备所配置的过滤器进行化学液过滤，则将增加过滤器的负荷，进而缩短其使用寿命和维护周期，导致设备维护成本上升。

因此，有必要提出一种新的过滤储液装置，以解决上述问题。

发明内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种过滤储液装置，用于解决现有技术中循环使用的化学液的颗粒污染物无法得到有效过滤的问题。

为实现上述目的及其它相关目的，本发明提供了一种过滤储液装置，其特征在于，包括：

槽体，其用于容纳化学液；

溢流栏，其用于将所述槽体分隔为第一分槽和第二分槽；所述溢流栏的高度低于所述槽体的高度；所述第一分槽中的所述化学液通过所述溢流栏的顶部溢流至所述第二分槽；

回液管路，其连接所述第一分槽，用于回收所述化学液并将所述化学液输送至所述第一分槽；

供液管路，其连接所述第二分槽，用于从所述第二分槽向用液设备供给所述化学液。

作为本发明的一种可选方案，所述第一分槽的底面为斜面，所述斜面中靠近所述溢流栏的区域的高度低于所述斜面中远离所述溢流栏的区域的高度。

作为本发明的一种可选方案，所述过滤储液装置还包括用于从所述槽体排出所述化学液的排液管路；所述排液管路包括连接所述第一分槽的第一排液管路和连接所述第二分槽的第二排液管路；所述第一排液管路连接所述第一分槽中靠近所述溢流栏的底面。

作为本发明的一种可选方案，所述第一排液管路连接所述第二排液管路，并通过所述第二排液管路排出所述化学液；所述供液管路连接所述第二排液管路，并从所述第二排液管路获取所述化学液；所述第一排液管路、所述第二排液管路和所述供液管路各自设有阀门，通过所述阀门的开关切换从所述第二分槽向用液设备供给所述化学液或者从所述槽体排出所述化学液的状态。

作为本发明的一种可选方案，所述回液管路连通所述第一分槽的端口位置的高度低于所述溢流栏的高度。

作为本发明的一种可选方案，所述溢流栏的高度范围介于所述槽体高度的二分之一至四分之三之间。