[发明专利]电阻测试结构及方法在审

专利信息
申请号: 201911386695.0 申请日: 2019-12-30
公开(公告)号: CN113125853A 公开(公告)日: 2021-07-16
发明(设计)人: 蒋乐乐;陆宇;马松;沈立 申请(专利权)人: 海安集成电路技术创新中心;海安芯润集成电路科技有限公司;上海北京大学微电子研究院
主分类号: G01R27/02 分类号: G01R27/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 226602 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电阻 测试 结构 方法
【说明书】:

发明提出了通孔电阻测试结构及方法,以提高通孔电阻的测试精确度。该测试结构包括至少两个子测试结构,所述子测试结构是一条通孔链,包含有多个通孔单元及连接通孔单元的互连线,相邻两个通孔单元由互连线相连,所述同一个子测试结构中的通孔单元包含的通孔数相同,所述互连线由分别位于相邻两金属层上的互连线组成,且上下两层互连线在通孔连接处有重叠区域,所述各子测试结构在通孔单元的通孔数彼此不相同,所述各子测试结构的互连线部分完全相同。

技术领域

本发明涉及集成电路领域,尤其涉及通孔电阻测量结构及方法。

背景技术

随着技术的发展,集成度越来越高,集成电路内包含的晶体管越来越多,互连线的层数也从以前的三四层增加到九层甚至十层。而将这些晶体管和互连线连接在一起的接触孔,以及将不同金属层上的互连线连接在一起的通孔,数目急剧增加。

随着集成电路的发展,后端互连线的寄生电阻电容等电学参数成为了决定电路性能的重要因素,所以将这些互连线连接在一起的通孔也越来越重要,集成电路制造工艺包括多个步骤,且集成电路通常包含数百万至一亿多个通孔,任何一个通孔的失效都可能导致集成电路的功能无法达到预定要求。所以,业界对准确提取通孔电阻的要求也越来越高。

通孔电阻的测量原理通常是:采用测试结构,并制作成测试芯片,然后通过测量测试结构的电阻,来最终得到通孔电阻。

目前业界存在的通孔测试结构,采用一条包含有通孔和互连线的通孔链,测试整条通孔链的电阻,然后计算单个通孔电阻。这种方案得出的通孔电阻包括互连线部分的电阻,得到的通孔电阻误差较大。

发明内容

本发明提供通孔电阻测试结构及相应方法,以提高通孔电阻的测量准确度。

本发明提供的互连线测试结构包括多个子测试结构,所述子测试结构是一条通孔链,包含有多个通孔单元及连接通孔单元的互连线,相邻两个通孔单元由互连线相连,所述同一个子测试结构中的通孔单元包含的通孔数相同,所述互连线由分别位于相邻两金属层上的互连线组成,且上下两层互连线在通孔连接处有重叠区域,所述各子测试结构在通孔单元的通孔数彼此不相同,所述各子测试结构的互连线部分完全相同。

本发明提供了采用本发明中通孔电阻测试结构计算通孔电阻的方法,包括步骤:制作包含各子测试结构的测试芯片;分别测试各子测试结构中通孔链的电阻;分析各子测试结构的通孔链电阻值与相应子测试结构通孔单元内通孔个数的对应关系;根据所述对应关系,在直角坐标中描点,画线;根据所得直线,其在纵坐标上的截距作为互连线部分电阻;根据坐标轴中所得直线,其斜率作为各子测试结构重叠区域为1个通孔时的通孔链电阻;根据所得重叠区域为1个通孔时通孔链的电阻,除以该通孔链中的总通孔数,作为单个通孔的电阻。

采用本发明实施例的测试结构和方法,可以得到一个通孔的电阻值,而现有技术中,若要测试通孔电阻,会将部分互连线的电阻也加入到通孔电阻中,因此,与现有技术相比,采用本发明实施例提供的测试结构及方法,可以提高通孔电阻的准确度。

附图说明

图1a~1c为本发明实施例中各子测试结构的结构示意图;

图2为本发明实施例提出的通孔电阻测量方法流程图;

图3为本发明实施例中各子测试结构测量电阻与通孔单元内通孔数倒数的对应关系。

具体实施方式

针对背景技术提及的问题,本发明实施例提出下述通孔测试结构及相应计算方法,以消除现有测试结构中互连线部分电阻对通孔电阻的影响,提高了测试通孔电阻的准确度。

图1为本发明实施例中测试结构示意图,本发明实施例提出的通孔电阻测试结构及方法包括:

所述结构包含多个子测试结构10,20,30;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于海安集成电路技术创新中心;海安芯润集成电路科技有限公司;上海北京大学微电子研究院,未经海安集成电路技术创新中心;海安芯润集成电路科技有限公司;上海北京大学微电子研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911386695.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top