[发明专利]低温等离子技术处理鞋材表面的工艺方法

权利要求书

1.低温等离子技术处理鞋材表面的工艺方法，其特征在于，包括以下步骤：

S10、对鞋材表面进行清理；

S20、通过进料输送机构将鞋材输送至中转机构，中转机构将鞋材输送至密闭的等离子腔室内，等离子腔室内设有等离子发生器，对等离子腔室抽真空，向等离子发生器的电极板间供入含氧气的工作气体，打开等离子发生器后通过等离子电场电离氧气形成等离子体，等离子体通过喷枪朝向鞋材处喷射，开启电源为等离子体施加使等离子体发散的偏置电场以使得等离子体均匀作用于鞋材表面，中转机构携带被处理后的鞋材移动至中转位置，待第二批鞋材被输送至等离子腔室内时，中转机构携带被处理后的鞋材移动至出料工位。

2.根据权利要求1所述的低温等离子技术处理鞋材表面的工艺方法，其特征在于，调整等离子发生器的功率至500～1200W，调整电压至8～13V，对鞋材的处理时间为20～120s。

3.根据权利要求1或2所述的低温等离子技术处理鞋材表面的工艺方法，其特征在于，工作气体包括氧气和氩气。

4.根据权利要求1或2所述的低温等离子技术处理鞋材表面的工艺方法，其特征在于，在S20中，进料输送机构的进料工位和出料工位共用一个工位以方便单人操作。

5.根据权利要求1或2所述的低温等离子技术处理鞋材表面的工艺方法，其特征在于，对等离子腔室抽真空时，将腔体压力抽至20～35Pa。

6.根据权利要求3所述的低温等离子技术处理鞋材表面的工艺方法，其特征在于，工作气体中，氧气的含量不低于20%。

7.根据权利要求1或2所述的低温等离子技术处理鞋材表面的工艺方法，其特征在于，在等离子腔室内设置两层金属网板，上层金属网板上的鞋材的待处理表面朝上设置，下层金属网板上的鞋材的待处理表面朝下设置，等离子发生器的两个电极板分别设置在等离子腔室的上部和下部。

8.根据权利要求1或2所述的低温等离子技术处理鞋材表面的工艺方法，其特征在于，在S10中，对鞋材表面的清理包括打磨和水洗。

9.根据权利要求1或2所述的低温等离子技术处理鞋材表面的工艺方法，其特征在于，在S20之前，根据选择的不同的鞋材的材质选择不同的气体配方。

10.根据权利要求7所述的低温等离子技术处理鞋材表面的工艺方法，其特征在于，等离子腔室的底板由中转机构构成，等离子发生器的其中一个电极板位于中转机构上。