[发明专利]一种等离子光刻胶装置

说明书

本发明公开了一种等离子光刻胶装置，包括外壳体、通水电极管路、通水极板组、绝缘的物料托架以及真空腔体，真空腔体设置于外壳体内，且真空腔体后部连接有集成式通水电极管路及通水套件，通水电极管路通过连接电缆与射频电源连接，通水极板组设置于真空腔体内；本发明的等离子光刻胶装置通水式电极板具有以下优点：1）可以有效地控制腔体内部温度，实现不同产品的处理要求；2）可以达到最佳的效果及处理均匀性，保证了处理良率的同时，并提高了处理效率。

技术领域

本发明涉及等离子刻胶技术领域，特别涉及一种等离子光刻胶装置。

背景技术

等离子刻胶是干法蚀刻中常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。采用该原理工作的等离处理设备是用等离子体中的自由基去轰击或溅射被刻蚀材料的表面分子，形成易挥发物质，从而实现刻胶的目的。

目前，等离子处理设备广泛应用于等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面活化、改性等场合。通过其处理，能够改善材料的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。

然而，传统的等离子光刻胶设备是在一个真空腔体内，腔体内只能放置1件晶圆，等离子通过平行电极板产生等离子体，对晶圆表面的残胶和有机污染材料进行刻蚀反应。

发明内容

为了克服上述缺陷，本发明提供了一种等离子光刻胶装置，可以同时对多件晶圆进行刻胶处理。

本发明为了解决其技术问题所采用的技术方案是：一种等离子光刻胶装置，包括外壳体、通水电极管路、通水极板组、绝缘的物料托架以及真空腔体，真空腔体设置于外壳体内，且真空腔体后部连接有集成式通水电极管路及通水套件，通水电极管路通过连接电缆与射频电源连接，通水极板组设置于真空腔体内；

所述真空腔体的后部和下部设有抽空管道，所述抽空管道连接真空泵，有效的提高了抽气速率和腔体内部的等离子分布均匀性，有效的提高处理后的产品良率；

所述通水极板组在腔体内部均匀分布间隔设置的7层正极板和6层负极板，共有6层处理区，每层处理区都是正极板在上部，负极板在下部，可以达到最佳的效果及处理均匀性，正极板和负极板之间设置物料托架，每块正极板和负极板内部分布由若干通水管路，可以有效地控制腔体内部温度，实现不同产品的处理要求，通水管路的进水口和出水口上设置通水套件，通过通水套件与通水电极管路连接；

作为本发明的进一步改进，所述通水管路的进水口和出水口分别设有与之连通的竖直设置的通水电极管路，通水电极管路的下端为进水端，上端为出水端。两路均采用下部进水，上部出水设计，有效的解决了极板内部憋气现象，可以达到更均匀稳定的控温效果。

作为本发明的进一步改进，所述物料托架可拆迁固定在负极板上，负极板两侧上有导轨，所述物料托架的两端设有固定式滚轴，通过固定式滚轴滑动嵌入导轨固定物料托架，使得物料托架不会脱离负极板，避免了人为失误造成的物料脱落现象，提高生产效率的同时，保证设备稳定性和可靠性。

作为本发明的进一步改进，所述物料托架的中间设有两个晶圆放置区，晶圆放置区的圆周边上设有可调整移动的台阶陶瓷物料支撑块，且每个陶瓷物料支撑块之间还设置一个取料位方便取料。

作为本发明的进一步改进，所述物料托架的表面设有若干通气孔。

本发明的有益效果是：本发明的等离子光刻胶装置通水式电极板具有以下优点：1）可以有效地控制腔体内部温度，实现不同产品的处理要求；2）可以达到最佳的效果及处理均匀性，保证了处理良率的同时，并提高了处理效率。