[发明专利]轴承装置和真空泵装置

说明书

本发明提供一种能够减小真空泵的设置空间并且能够充分发挥轴承的功能的轴承装置以及真空泵装置。轴承装置(15)具备：对在铅垂方向上延伸的轴(8)进行支承的轴承；收容轴承的轴承外壳(40)；配置于轴承外壳(40)的下方并且能固定于轴(8)的旋转圆筒(45)；以及收容轴承、轴承外壳(40)以及旋转圆筒(45)的轴承壳体(46)。旋转圆筒(45)具备形成于旋转圆筒(45)的外周面(45a)的斜坡(70)。

技术领域

本发明涉及一种轴承装置和真空泵装置。

背景技术

已知一种用于半导体制造和/或有机EL、液晶等平板制造的真空泵(例如，生产废气的排气用的真空泵、高排气速度真空泵等)。

现有技术文献

专利文献

专利文献：日本实开平6-53793号公报

近年，在半导体制造和/或平板制造中，伴随半导体的高性能化和/或面板的大型化，导入处理室内的生产废气的流量增加，但是在这样的现状下，也需要将处理室内的压力保持为某种恒定的压力。

鉴于上述的必要性，作为排出生产废气的真空泵，需要排气速度较高的真空泵，真空泵的尺寸也大型化。然而，由于真空泵的大型化，半导体制造工厂和/或平板制造工厂中的真空泵装置的设置空间增加，从而设置空间的确保成为问题。

为了减小设置空间，考虑将真空泵装置竖直配置并进一步使其高速运转(例如4000min^-1以上)，但是由于真空泵装置具备支承其轴的轴承装置，因此需要充分确保其可靠性。

发明内容

因此，提供了一种能够减小真空泵装置的设置空间并且能够充分发挥轴承的功能的轴承装置，并且提供了一种具备该轴承装置的真空泵装置。

此外，当采用了竖直配置的真空泵装置时，轴承装置内的润滑油可能会由于重力以及轴承室和泵室的压力差的作用而向轴承装置的下方泄漏。

因此，提供了一种能够减小真空泵装置的设置空间并且能够可靠地防止润滑油的泄漏的轴承装置，并且提供了一种具备该轴承装置的真空泵装置。

一方式中，提供一种轴承装置，具备：轴承，该轴承对沿铅垂方向延伸的轴进行支承；轴承外壳，该轴承外壳收容所述轴承；旋转圆筒，该旋转圆筒配置于所述轴承外壳的下方，并且能固定于所述轴；以及轴承壳体，该轴承壳体收容所述轴承、所述轴承外壳以及所述旋转圆筒，所述旋转圆筒具备形成于所述旋转圆筒的外周面的斜坡。

一方式中，所述斜坡配置于所述旋转圆筒的外周面与所述轴承壳体的内表面之间的间隙。

一方式中，在所述旋转圆筒的旋转方向上，所述斜坡从所述旋转圆筒的上端朝向所述旋转圆筒的下端向斜下方延伸。

一方式中，所述旋转圆筒具备配置于所述轴承的径向外侧的外侧圆筒部，所述外侧圆筒部的上端配置于比所述轴承的滚动体的下端高的位置。

一方式中，所述轴承外壳具备托盘，该托盘接收因所述斜坡的旋转而提升的润滑油并且将润滑油向所述轴承引导。

一方式中，所述轴承壳体具备上端壁，该上端壁配置于所述旋转圆筒和所述轴承的上方，所述上端壁具有将与所述上端壁碰撞后的润滑油向所述轴承引导的锥形形状。

一方式中，提供了一种轴承装置，具备：轴承，该轴承对沿铅垂方向延伸的轴进行支承；轴承外壳，该轴承外壳收容所述轴承；旋转圆筒，该旋转圆筒配置于所述轴承外壳的下方，并且能固定于所述轴；以及轴承壳体，该轴承壳体收容所述轴承、所述轴承外壳以及所述旋转圆筒，所述旋转圆筒具备从所述旋转圆筒的下表面向下方延伸的多个圆筒状的向下肋，所述轴承壳体具备从所述轴承壳体的底壁朝向上方延伸的多个圆筒状的向上肋，多个所述向下肋和多个所述向上肋交替地配置。