[发明专利]纹理转印母模、板材及制备方法、纹理转印子模、壳体、电子设备

权利要求书

1.一种纹理转印母模，其特征在于，所述纹理转印母模上具有交替间隔设置的第一纹理区和第二纹理区，所述纹理转印母模包括第一纹理和第二纹理，其中，所述第一纹理和所述第二纹理的纹理形状不完全相同，所述第一纹理位于所述第一纹理区以及部分所述第二纹理区中，所述第二纹理位于所述第二纹理区中，且所述第二纹理区中的所述第一纹理和所述第二纹理间隔设置。

2.根据权利要求1所述的纹理转印母模，其特征在于，所述第一纹理和所述第二纹理的纹理间距以及纹理高度的至少之一不完全相同。

3.根据权利要求2所述的纹理转印母模，其特征在于，所述第一纹理的纹理间距为10-1000nm，所述第二纹理的纹理间距为2-100μm。

4.根据权利要求2所述的纹理转印母模，其特征在于，所述第一纹理的纹理高度为10-800nm，所述第二纹理的纹理高度为2-100μm。

5.根据权利要求1所述的纹理转印母模，其特征在于，形成所述纹理转印母模的材料包括金属或玻璃。

6.根据权利要求3或4所述的纹理转印母模，其特征在于，所述第一纹理包括拼接形成的纹理形状不完全相同的第一子纹理和第二子纹理。

7.一种制备权利要求1-6任一项所述的纹理转印母模的方法，其特征在于，包括：

提供模板基板；

对所述模板基板的表面进行第一加工处理，以便形成第一纹理；

对所述模板基板的形成有所述第一纹理的部分表面进行第二加工处理，以便形成第二纹理。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述第一加工处理包括激光刻蚀处理，所述第二加工处理包括机械加工处理。

9.一种纹理转印子模，其特征在于，所述纹理转印子模是利用UV胶在权利要求1-6任一项所述的纹理转印母模上进行转印形成的，所述纹理转印子模具有和所述纹理转印母模完全相同的第一纹理和第二纹理。

10.一种板材，其特征在于，包括：

基体；

纹理层，所述纹理层设置在所述基体的一侧，所述纹理层具有交替间隔设置的第三纹理区和第四纹理区，所述纹理层包括第三纹理和第四纹理，所述第三纹理和所述第四纹理的纹理形状不完全相同，其中，所述第三纹理位于所述第三纹理区以及部分所述第四纹理区中，所述第四纹理位于所述第四纹理区中，且所述第四纹理区中的所述第三纹理和所述第四纹理间隔设置；以及

镀膜层，所述镀膜层设置在所述纹理层远离所述基体的一侧。

11.根据权利要求10所述的板材，其特征在于，所述第三纹理和所述第四纹理的纹理间距以及纹理高度的至少之一不完全相同。

12.根据权利要求11所述的板材，其特征在于，所述第三纹理的纹理间距为10-1000nm，所述第四纹理的纹理间距为2-100μm。

13.根据权利要求11所述的板材，其特征在于，所述第三纹理的纹理高度为10-800nm，所述第四纹理的纹理高度为2-100μm。

14.根据权利要求10所述的板材，其特征在于，所述第三纹理包括拼接形成的纹理形状不完全相同的第三子纹理和第四子纹理。

15.根据权利要求10所述的板材，其特征在于，所述纹理层是利用权利要求9所述的纹理转印子模通过一次UV转印工艺形成的，其中，所述纹理转印子模中的第一纹理和所述纹理层中的所述第三纹理相对应，所述纹理转印子模中的第二纹理和所述纹理层中的所述第四纹理相对应。