[发明专利]纳米压印结构、其控制方法、纳米压印装置及构图方法

权利要求书

1.一种纳米压印结构，其特征在于，包括：两个沿第一方向延伸的固定磁铁，且所述固定磁铁之间在第二方向上存在第一预设距离，以及分别位于所述固定磁铁上且沿所述第一方向延伸的磁性连杆；还包括：

多个轴承结构，所述轴承结构套设在所述磁性连杆上，所述轴承结构被配置为在控制下在预设方向围绕所述磁性连杆转动预设弧度，且在控制下沿所述磁性连杆在所述第一方向上滑动第二预设距离；

环状软膜板，所述环状软膜板套设在两个所述磁性连杆上，且覆盖所述轴承结构所在区域，所述环状软膜板的压印图形位于两个所述磁性连杆之间，且位于紧邻所述固定磁铁的一侧；

所述压印图形在第二方向上的延伸长度小于所述第一预设距离，和/或，所述压印图形在所述第一方向上的延伸长度小于所述磁性连杆在所述第一方向上的长度；所述第一方向与所述第二方向垂直。

2.如权利要求1所述的纳米压印结构，其特征在于，在所述环状软膜板覆盖的区域内，所述轴承结构均匀分布。

3.如权利要求1所述的纳米压印结构，其特征在于，所述第一预设距离为600mm～1800mm。

4.如权利要求1所述的纳米压印结构，其特征在于，所述压印图形在第二方向上的延伸长度为84mm～252mm；

所述压印图形在所述第一方向上的延伸长度为56mm～168mm。

5.一种权利要求1-4任一项所述的纳米压印结构的控制方法，其特征在于，包括：

根据待构图基板中预设的待构图区域，调整所述轴承结构在预设方向围绕所述磁性连杆转动预设弧度，和/或，调整所述轴承结构在所述第一方向上沿所述磁性连杆滑动所述第二预设距离。

6.一种纳米压印装置，其特征在于，包括权利要求1-4任一项所述纳米压印结构，位于所述纳米压印结构背离所述压印图形一侧的压印杆，以及控制单元；

所述控制单元被配置为控制所述压印杆以及所述轴承结构运动。

7.一种基板的构图方法，其特征在于，利用权利要求6所述的纳米压印装置对待构图基板进行构图。

8.如权利要求7所述的基板的构图方法，其特征在于，利用所述的纳米压印装置对待构图基板进行构图，具体包括：

提供一待构图基板；

在所述基板上涂覆压印胶；

将所述纳米压印结构中压印图形的位置调整至所述基板的第一待构图区域；

控制所述压印杆按预设路径压印所述纳米压印结构，形成所述压印胶的图形；

根据所述压印胶的图形，对所述基板的所述第一待构图区域进行构图。

9.如权利要求8所述的基板的构图方法，其特征在于，所述对所述基板的所述第一待构图区域进行构图，具体包括：

在所述第一待构图区域，对形成有所述压印胶的图形的所述基板进行灰化处理；

依次对灰化处理后的所述基板进行干刻和湿刻，在所述第一待构图区域形成所述基板的图形。

10.如权利要求8所述的基板的构图方法，其特征在于，在对所述基板的第一待构图区域构图完成之后，所述方法还包括：

在所述基板上涂覆压印胶；

将所述环状软膜板上的所述压印图形的位置调整至所述基板的第二待构图区域；

控制所述压印杆按预设路径压印所述纳米压印结构，在所述第二待构图区域内形成所述压印胶的图形；

根据所述压印胶的图形，对所述基板的所述第二待构图区域进行构图。