[发明专利]圈点绘制的方法及装置在审

专利信息
申请号: 201911305764.0 申请日: 2019-12-17
公开(公告)号: CN111161374A 公开(公告)日: 2020-05-15
发明(设计)人: 吴帆;陈俊斌;黄宇翔;张闽;陈尚荣 申请(专利权)人: 稿定(厦门)科技有限公司
主分类号: G06T11/20 分类号: G06T11/20;G06T11/40
代理公司: 北京卓唐知识产权代理有限公司 11541 代理人: 卜荣丽
地址: 361000 福建省厦门*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 圈点 绘制 方法 装置
【说明书】:

本申请公开了一种圈点绘制的方法及装置。该申请的方法包括根据选择的圈点元素的形状和/或样式在当前图像或者页面中进行圈点绘制;在绘制的圈点形状外的区域增加蒙层,以将不需要凸显的内容进行遮挡。本申请解决现有的圈点绘制方式效果差影响查看效率的问题。

技术领域

本申请涉及数据处理技术领域,具体而言,涉及一种圈点绘制的方法及装置。

背景技术

在对图片或者文本进行处理的过程中,为了对一些信息进行凸显,通常会使用圈点的方式将需要凸显的内容进行圈点绘制,比如想对一个图片中的某一部分图像(比如“小狗”)凸显,则通过对“小狗”部分加红圈进行凸显。本发明人在使用现有的圈点绘制的方式进行圈点操作时,发现圈点的方式只是通过一个封闭的分割线将该凸显的内容和不凸显的内容进行分离,不想被凸显的内容没有任何的变化,对凸显内容的查看还是会造成一定的视觉干扰,影响查看的效率。

发明内容

本申请的主要目的在于提供一种圈点绘制的方法及装置,以解决现有的圈点绘制方式效果差影响查看效率的问题。

为了实现上述目的,根据本申请的第一方面,提供了一种圈点绘制的方法。

根据本申请的圈点绘制的方法包括:

根据选择的圈点元素的形状和/或样式在当前图像或者页面中进行圈点绘制;

在绘制的圈点形状外的区域增加蒙层,以将不需要凸显的内容进行遮挡。

进一步的,所述方法还包括:

获取蒙层的透明度和/或样式;

根据蒙层的透明度和/或样式对蒙层进行调节。

进一步的,在绘制的圈点形状外的区域增加蒙层之前,所述方法还包括:

判断在当前图像或者页面中是否进行多个圈点绘制;

若为多个圈点绘制,则在所有的圈点绘制完成后,执行在圈点形状外的区域增加蒙层的操作。

进一步的,在绘制的圈点形状外的区域增加蒙层之前,所述方法还包括:

返回是否继续进行圈点绘制的提示信息;

若为否,则执行在绘制的圈点形状之外的区域增加蒙层的操作;

若为是,则继续进行圈点的绘制。

为了实现上述目的,根据本申请的第二方面,提供了一种圈点绘制的装置。

根据本申请的圈点绘制的装置包括:

绘制单元,用于根据选择的圈点元素的形状和/或样式在当前图像或者页面中进行圈点绘制;

蒙层增加单元,用于在绘制的圈点形状外的区域增加蒙层,以将不需要凸显的内容进行遮挡。

进一步的,所述装置还包括:

获取单元,用于获取蒙层的透明度和/或样式;

调节单元,用于根据蒙层的透明度和/或样式对蒙层进行调节。

进一步的,所述装置还包括:

判断单元,用于在绘制的圈点形状外的区域增加蒙层之前,判断在当前图像或者页面中是否进行多个圈点绘制;

第一执行单元,用于若为多个圈点绘制,则在所有的圈点绘制完成后,执行在圈点形状外的区域增加蒙层的操作。

进一步的,所述装置还包括:

返回单元,用于在绘制的圈点形状外的区域增加蒙层之前,返回是否继续进行圈点绘制的提示信息;

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