[发明专利]一种波纹状流场结构有效
| 申请号： | 201911287491.1 | 申请日： | 2019-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN112993303B | 公开（公告）日： | 2022-11-15 |
| 发明（设计）人： | 侯明;何良;邵志刚;孟祥超;郑利民 | 申请（专利权）人： | 中国科学院大连化学物理研究所 |
| 主分类号： | H01M8/0258 | 分类号： | H01M8/0258;H01M8/0265 |
| 代理公司： | 大连东方专利代理有限责任公司 21212 | 代理人： | 毛薇;李馨 |
| 地址： | 116000 辽宁*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 波纹 状流场 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种波纹状流场结构，其特征在于：所述流场结构的中央区域由多个一级流道与多个二级流道交替构成；
所述一级流道由多个相同的凹圆弧面与多个相同的凸圆弧面Ⅰ交替构成；
所述二级流道由多个相同的凸圆弧面Ⅱ与多个相同的平面交替构成；
所述一级流道与二级流道平行布置；
所述一级流道是气体的主要流动通道，也是产物水的主要排出通道；二级流道不仅具有常规流场脊的作用，还能够沟通不同流道，使气体可以在全电池范围内流动；
所述凹圆弧面与凸圆弧面Ⅱ相邻；
所述凸圆弧面Ⅰ与平面相邻。
2.根据权利要求1所述的波纹状流场结构，其特征在于：所述凹圆弧面半径与凸圆弧面Ⅰ半径相等，且所述凹圆弧面的半径为2-2.5mm。
3.根据权利要求2所述的波纹状流场结构，其特征在于：所述凹圆弧面高度与凸圆弧面Ⅰ高度相等。
4.根据权利要求3所述的波纹状流场结构，其特征在于：所述凸圆弧面Ⅱ的半径为2mm。
5.根据权利要求4所述的波纹状流场结构，其特征在于：所述凸圆弧面Ⅱ的高度为0.4-0.6mm。
6.根据权利要求5所述的波纹状流场结构，其特征在于：所述凹圆弧面长度与凸圆弧面Ⅱ长度相等。
7.根据权利要求6所述的波纹状流场结构，其特征在于：所述凸圆弧面Ⅰ长度与平面长度相等。
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