[发明专利]调光玻璃制备方法

权利要求书

1.一种调光玻璃制备方法，其特征在于，包括：

提供基板；

以氟硅氧化物、铟锡氧化物、铟镓锌氧化物、铝锌氧化物、镓锌氧化物、银中的一种或至少两种的组合为靶材材料沉积第一导电层至所述基板的一侧；

以镍、钒、钴、铱、铁、锰中至少两种组合的氧化物为靶材材料沉积第一辅助调光色层至所述第一导电层上；

以氢、锂、钠、钾、镁元素的一种或者至少两种的组合为靶材材料沉积第一离子导体层至所述第一辅助调光色层上；

以钨、钼、铌、钛、钽中至少两种组合的氧化物为靶材材料沉积第一主调光层至所述第一离子导体层上；

以氟硅氧化物、铟锡氧化物、铟镓锌氧化物、铝锌氧化物、镓锌氧化物、银中的一种或至少两种的组合为靶材材料沉积第二导电层至所述第一主调光层上；

以钨、钼、铌、钛、钽中至少两种组合的氧化物为靶材材料沉积第二主调光层至所述第二导电层上；

以镍、钒、钴、铱、铁、锰中至少两种组合的氧化物为靶材材料沉积第二辅助调光色层至所述第二主调光层上；

以氢、锂、钠、钾、镁元素的一种或者至少两种的组合为靶材材料沉积第二离子导体层至所述第二辅助调光色层上；

以氟硅氧化物、铟锡氧化物、铟镓锌氧化物、铝锌氧化物、镓锌氧化物、银中的一种或至少两种的组合为靶材材料沉积第三导电层至所述第二离子导体层上；以及

以硅、钛、锌、锡、铌、钽之一的氧化物或氮化物或氮氧化物为靶材材料沉积外层保护层至所述第三导电层上。

2.一种调光玻璃制备方法，其特征在于，包括：

提供基板；

在所述基板上形成第一导电层；

在所述第一导电层上形成第一辅助调光色层；

在所述第一辅助调光色层上形成第一离子导体层；

在所述第一离子导体层上形成第一主调光层；

在所述第一主调光层上形成第二导电层；

在所述第二导电层上形成第二主调光层；

在所述第二主调光层上形成第二辅助调光色层；

在所述第二辅助调光色层上形成第二离子导体层；

在所述第二离子导体层上形成第三导电层；以及

在所述第三导电层上形成外保护层。

3.根据权利要求2所述的调光玻璃制备方法，其特征在于，所述在所述基板上形成第一导电层包括：

将所述基板升温至280-300℃；以及

以氟硅氧化物、铟锡氧化物、铟镓锌氧化物、铝锌氧化物、镓锌氧化物、银中的一种或至少两种的组合为靶材材料，在真空溅射气压为1.0E^-3～9.0E^-3mbar条件下沉积所述第一导电层至所述基板上。

4.根据权利要求2所述的调光玻璃制备方法，其特征在于，所述在所述第一导电层上形成第一辅助调光色层具体为：

以镍、钒、钴、铱、铁、锰中至少两种组合的氧化物为靶材材料，在真空溅射气压为1.0E^-3～9.0E^-3mbar条件下沉积所述第一辅助调光色层至所述第一导电层上。

5.根据权利要求4所述的调光玻璃制备方法，其特征在于，形成所述第二辅助调光色层的靶材材料与形成所述第一辅助调光色层的靶材材料相同。

6.根据权利要求2所述的调光玻璃制备方法，其特征在于，所述在所述第一辅助调光色层上形成第一离子导体层具体为：

以氢、锂、钠、钾、镁元素的一种或者至少两种的组合为靶材材料，在真空溅射气压为1.0E^-3～9.0E^-3mbar条件下沉积所述第一离子导体层至所述第一辅助调光色层上。

7.根据权利要求2所述的调光玻璃，其特征在于，所述在所述第一离子导体层上形成第一主调光层具体为：

以钨、钼、铌、钛、钽中至少两种组合的氧化物为靶材材料，在真空溅射气压为1.0E^-3～9.0E^-3mbar条件下沉积所述第一主调光层至所述第一离子导体层上。