[发明专利]供电构造和等离子体处理装置在审
| 申请号： | 201911273973.1 | 申请日： | 2019-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN111326397A | 公开（公告）日： | 2020-06-23 |
| 发明（设计）人： | 佐佐木康晴;内田阳平 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 供电 构造 等离子体 处理 装置 | ||
本发明提供一种能够使等离子体的面内分布均匀化的供电构造和等离子体处理装置。供电构造具备第1连接构件组和第1端子区域。第1连接构件组由多个连接构件构成，该多个连接构件以对配置于等离子体处理装置用的处理容器内的聚焦环施加偏置电位的方式沿着聚焦环的周向配置。第1端子区域为环状，该第1端子区域与多个连接构件电连接。
技术领域
本公开的例示的实施方式涉及供电构造和等离子体处理装置。
背景技术
等离子体处理装置用于电子器件的制造。等离子体处理装置的一种记载在专利文献1中。在专利文献1所记载的等离子体处理装置中，聚焦环以包围在静电卡盘上载置的基板的方式配置。为了调整聚焦环上的鞘层的上端位置，对聚焦环施加直流电压。
专利文献1：日本特开2007-258417号公报
发明内容
期待能够使等离子体的面内分布均匀化的供电构造和等离子体处理装置。
在一个例示的实施方式中，提供一种供电构造。供电构造具备第1连接构件组和第1端子区域。第1连接构件组由多个连接构件构成，该多个连接构件以对配置于等离子体处理装置用的处理容器内的聚焦环施加偏置电位的方式沿着聚焦环的周向配置。第1端子区域是环状，与多个连接构件电连接。
根据一个例示的实施方式，能够提供能够使等离子体的面内分布均匀化的供电构造和等离子体处理装置。
附图说明
图1是概略地表示一个例示的实施方式的等离子体处理装置的图。
图2是一个例示的实施方式的基板支承器的剖视图。
图3是一个例示的实施方式的基板支承器的局部放大剖视图。
图4是概略地表示一个例示的实施方式的基板支承器的聚焦环用的卡盘区域中的第1电极和第2电极的布局的图。
图5的(a)和图5的(b)是一个例示的实施方式的基板支承器的局部放大剖视图。
图6是概略地表示其他例示的实施方式的基板支承器的卡盘区域中的第1电极和第2电极的布局的图。
图7是概略地表示其他例示的实施方式的基板支承器的卡盘区域中的第1电极和第2电极的布局的图。
图8是一个例示的实施方式的供电构造的俯视图。
图9是分解来表示一个例示的实施方式的供电构造的一部分的立体图。
图10是分解来表示一个例示的实施方式的供电构造的纵截面构造的图。
图11是分解来表示位于供电构造的上部的连接构件的立体图。
图12是位于供电构造的下部的连接构件的仰视图。
图13是其他例示的实施方式的供电构造的俯视图。
图14是分解来表示其他例示的实施方式的供电构造的一部分的立体图。
图15是分解来表示其他例示的实施方式的供电构造的纵截面构造的图。
具体实施方式
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