[发明专利]具有可重新定位电极的除霜设备

说明书

一种除霜系统包括：射频(RF)信号源；至少一个电极，至少一个电极靠近其内定位有待除霜负载的腔；传输路径，传输路径在RF信号源与电极之间；在传输路径中的至少一个母排，至少一个母排包括电极可以耦合到的多个端口；可重新定位搁架，可重新定位搁架附接到电极；以及安置在腔的侧壁上的多个支撑结构，多个支撑结构支撑可重新定位搁架。支座隔离器可以将电极附接到可重新定位搁架并且可以将电极与可重新定位搁架电隔离。通过移动可重新定位搁架以由多个支撑结构中的不同支撑结构支撑，同时将电极耦合到母排的多个端口中的不同端口，可以改变电极的竖直位置。

技术领域

本文所述主题的实施例总体上涉及使用射频(RF)能量对负载进行除霜的设备和方法。

背景技术

传统的电容式食物除霜(或解冻)系统包括容纳在加热隔室内的大型平面电极。将食物负载置于电极之间并且使电极与食物负载相接触之后，向电极供应低功率电磁能量以使食物负载受控升温。当食物负载在除霜期间解冻时，食物负载的阻抗改变。因此，在除霜操作期间，传递到食物负载的功率也会改变。可以例如基于食物负载的重量来确定除霜操作的时长，并且可以使用计时器来控制操作的停止。

虽然使用这种系统可以获得良好的除霜结果，但是食物负载大小的变化可能导致食物负载的除霜效率低下。需要的是用于对食物负载(或其它类型的负载)进行除霜的设备和方法，所述设备和方法可以对整个负载进行高效且均匀的除霜。

发明内容

根据本发明的第一方面，提供一种具有用于容纳负载的腔的热增加系统，所述热增加系统包括：

第一可重新定位电极，所述第一可重新定位电极安置在所述腔中；

第一母排，所述第一母排安置在所述腔中，所述第一可重新定位电极能够物理且电连接到所述第一母排；

第二可重新定位电极，所述第二可重新定位电极安置在所述腔中；

第二母排，所述第二母排安置在所述腔中，所述第二可重新定位电极能够物理且电连接到所述第二母排；

多个搁架支撑结构，所述多个搁架支撑结构安置在所述腔内，其中所述多个搁架支撑结构被配置成在所述腔内的多个高度处支撑所述第一可重新定位电极和所述第二可重新定位电极；以及

射频信号源，所述射频信号源分别经由所述第一母排和所述第二母排电连接到所述第一可重新定位电极和所述第二可重新定位电极中的一者或两者，所述射频信号源被配置成向所述第一可重新定位电极和所述第二可重新定位电极中的一者或两者提供射频能量。

在一个或多个实施例中，所述第一母排包括第一多个端口，所述第二母排包括第二多个端口，所述第一可重新定位电极插入所述第一多个端口中的一个端口中并且所述第二可重新定位电极插入所述第二多个端口中的一个端口中。

在一个或多个实施例中，所述热增加系统进一步包括：

可变阻抗匹配网络，所述可变阻抗匹配网络耦合在所述射频信号源与所述第一可重新定位电极和所述第二可重新定位电极中的一者或两者之间并且具有可变阻抗，其中所述可变阻抗匹配网络被配置成基于射频能量的一个或多个参数来调整所述可变阻抗，所述一个或多个参数选自由反射功率、正向功率和反射功率两者以及S11参数组成的组。

在一个或多个实施例中，所述热增加系统进一步包括：

第一可重新定位搁架，所述第一可重新定位搁架附接到所述第一可重新定位电极；以及

第二可重新定位搁架，所述第二可重新定位搁架附接到所述第二可重新定位电极，其中所述第一可重新定位搁架和所述第二可重新定位搁架由所述多个搁架支撑结构支撑。

在一个或多个实施例中，所述热增加系统进一步包括：