[发明专利]微透镜阵列的制备方法、显示装置的制备方法及显示装置

说明书

本发明提供一种微透镜阵列的制备方法、显示装置的制备方法及显示装置，属于显示技术领域，其可解决现有的微透镜尺寸较大的问题。本发明的微透镜阵列的制备方法，包括：在衬底上涂覆曝光材料层，并划分为多个微透镜区域；根据透镜相位函数，将微透镜区域形成多个采样区域；利用构图工艺，在采样区域形成台阶结构；同一微透镜区域内至少部分台阶结构的高度不同，同一微透镜区域的多个台阶结构构成一个微透镜。

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种微透镜阵列的制备方法、显示装置的制备方法及显示装置。

背景技术

随着增强现实(augmented reality，AR)技术的不断发展，基于光波导的AR显示产品的轻薄化越来越受到业界的关注。但是由于光波导的光效比较低，一般需要显示器件的发光亮度大于2000尼特(nit)才能满足显示要求。目前的显示器件的发光亮度一般低于1500nit，不能满足基于光波导的AR显示产品的显示要求。目前，往往通过在显示器件上设置一层微透镜阵列，以增强显示器件中心视角(±9度)的发光亮度，进而满足显示要求。针对尺寸(几十微米以上)比较大的微透镜，一般通过激光加工或者热熔的工艺进行制作。

发明人发现现有技术中至少存在如下问题：由于业界对于AR显示产品分辨率要求的不断提高，对于微透镜的尺寸要求也越来越高，现在的微透镜的尺寸一般在10微米以下，对于较小尺寸的微透镜，激光加工或者热熔的工艺变得非常复杂，不再适用于微透镜的制作，大大提高的工艺难度，严重影响了产品良率，从而提高了制作成本。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种微透镜阵列的制备方法、显示装置的制备方法及显示装置。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种微透镜阵列的制备方法，包括：

在衬底上涂覆曝光材料层，并划分为多个微透镜区域；

根据透镜相位函数，将所述微透镜区域形成多个采样区域；

利用构图工艺，在所述采样区域形成台阶结构；同一所述微透镜区域内至少部分所述台阶结构的高度不同，同一所述微透镜区域的多个所述台阶结构构成一个微透镜。

可选地，所述利用构图工艺，在所述采样区域形成台阶结构，包括：

将多个预设掩膜版的图案依次与所述采样区域对齐；

对所述曝光材料层进行曝光、显影、刻蚀，在所述采样区域形成所述台阶结构。

可选地，所述预设掩膜版的数量与所述微透镜中的所述台阶结构的数量之间的关系包括：L＝2ⁿ；其中，L表示台阶结构的数量，n表示预设掩膜版的数量。

可选地，在所述微透镜的中心向边缘方向上，多个所述台阶结构的高度单调递减。

可选地，所述根据透镜相位函数，将所述微透镜区域形成多个采样区域，包括：

根据透镜相位函数，在行方向和列方向上对所述微透镜区域进行等间距均匀采样，形成多个所述采样区域。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种显示装置的制备方法，包括如上述提供的微透镜阵列的制备方法。

可选地，所述在衬底上涂覆曝光材料层，之前还包括：

在基底上形成多个显示器件；

在多个所述显示器件上形成封装层。

可选地，所述封装层厚度与所述微透镜的焦距相等。

可选地，所述基底包括硅基底；所述显示器件包括发光二极管或有机发光二极管。

可选地，所述封装层为所述微透镜阵列的所述衬底。