[发明专利]基于螺旋相衬成像的太赫兹成像方法及装置在审

专利信息
申请号: 201911152101.X 申请日: 2019-11-20
公开(公告)号: CN110811615A 公开(公告)日: 2020-02-21
发明(设计)人: 吴世有;刘辉;李超;常超;方广有 申请(专利权)人: 中国科学院电子学研究所
主分类号: A61B5/05 分类号: A61B5/05
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴梦圆
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 基于 螺旋 成像 赫兹 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种基于螺旋相衬成像的太赫兹成像方法,包括:

准直的太赫兹波束经目标透射后得到第一透射波束;

第一透射波束传播距离f后经第一透镜调制后得到第二透射波束;

第二透射波束传播距离f后经过位于频谱面的螺旋相位板调制后得到第三透射波束;

第三透射波束传播距离f后经第二透镜调制后得到第四透射波束;

第四透射波束传播距离f后被太赫兹相机接收后成像。

2.根据权利要求1所述的太赫兹成像方法,其特征在于,

所述第一透镜和第二透镜均为凸透镜,第一透镜和第二透镜的焦距均为f。

3.根据权利要求1所述的太赫兹成像方法,其特征在于,

所述第一透射波束起始位置的场分布E1(x1,y1)为:

E1(x1,y1)=E0(x1,y1)t(x1,y1);

其中,E0(x1,y1)为照射到目标的准直太赫兹场分布,t(x1,y1)为目标的透射函数,(x1,y1)为目标平面的坐标。

4.根据权利要求3所述的太赫兹成像方法,其特征在于,

到达所述第一透镜的第一透射波束的场分布E2(x2,y2)满足:

F{E2(x2,y2)}=F{E1(x1,y1)}H(fx,fy);

其中,F{·}为傅里叶变换,fx=x2/λf,fy=y2/λf,j为虚数单位,λ为太赫兹波波长,(x2,y2)为第一透镜所在平面的坐标。

5.根据权利要求4所述的太赫兹成像方法,其特征在于,

到达所述频谱面的第二透射波束的场分布E3(x3,y3)为:

其中,k为波数,为第一透镜的调制函数,(x3,y3)为频谱面的坐标。

6.根据权利要求5所述的太赫兹成像方法,其特征在于,

到达所述第二透镜的第三透射波束场分布E4(x4,y4)为:

其中,为螺旋相位板的调制函数,为频谱面的方位角,fx=x4/λf,fy=y4/λf,(x4,y4)为第二透镜所在平面的坐标,ρ是(x4,y4)平面的径向长度,R是螺旋相位板的半径。

7.根据权利要求6所述的太赫兹成像方法,其特征在于,

所述太赫兹相机表面的场分布E4(x4,y4)为:

其中,(x5,y5)为太赫兹相机所在平面的坐标;

上式中的傅里叶变换可以写为,

其中,Jm(·)为m阶贝塞尔函数,Hm(·)为m阶斯特鲁夫函数。

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