[发明专利]一种用于As的多步改性纳米多孔硅吸附剂的制备方法及其应用在审

专利信息
申请号: 201911150310.0 申请日: 2019-11-21
公开(公告)号: CN110711557A 公开(公告)日: 2020-01-21
发明(设计)人: 陈秀华;李毅;刘家森;胡焕然 申请(专利权)人: 云南大学
主分类号: B01J20/22 分类号: B01J20/22;B01J20/28;B01J20/30;C02F1/28;C02F101/20
代理公司: 51248 成都市鼎宏恒业知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 代理人: 谢敏
地址: 650000*** 国省代码: 云南;53
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摘要:
搜索关键词: 纳米多孔硅 改性 砷离子 去除 形貌 表面化学活性 金刚石线切割 高效富集 工业废水 化学刻蚀 活性位点 金属辅助 吸附平衡 吸附容量 吸附效率 有机改性 硅废料 可控的 孔隙率 吸附剂 可用 吸附 废水
【权利要求书】:

1.一种用于As的多步改性纳米多孔硅吸附剂,其特征在于,该改性纳米多孔硅的结构式为:

2.根据权利要求1所述的一种用于As的多步改性纳米多孔硅吸附剂的制备方法,其特征在于,制备方法至少包括以下步骤:

将多孔硅与含3-甘二氧基丙基三甲氧基硅烷的原料反应,进行一次改性,得到改性纳米多孔硅A;将所述改性纳米多孔硅A与含四乙烯五胺的原料反应,进行二次改性,得到所述吸附剂。

3.根据权利要求2所述的一种用于As的多步改性纳米多孔硅吸附剂的制备方法,其特征在于,具体制备步骤如下:

(1)将金刚石线切割硅片得到的硅废料进行化学纯化处理,除去残留于硅粉上的有机切割液以及其它金属颗粒杂质,得到纯化硅粉;

(2)室温下,将步骤(1)得到的纯化硅粉通过两步金属纳米颗粒辅助化学刻蚀法进行刻蚀,并得到具有50~200nm纳米级孔道的硅细粉;

(3)将步骤(2)的具有纳米级孔道的硅细粉置于硝酸溶液中搅拌5~120min,固液分离得到硅粉,采用去离子水洗涤至洗液为中性,过滤、干燥得到多孔硅细粉;

(4)将步骤(3)的多孔硅置于H2SO4/H2O2混合液中活化30~120min,得到活化纳米多孔硅粉;

(5)将步骤(4)的活化纳米多孔硅粉和3-甘二氧基丙基三甲氧基硅烷溶于无水甲苯中,在温度为50~70℃回流反应12~48h,固液分离,洗涤,50-70℃真空干燥得到改性纳米多孔硅A;

(6)将步骤(5)的改性纳米多孔硅A和四乙烯五胺加入无水甲苯中,加热回流12~24h,固液分离,采用无水乙醇反复洗涤固体,真空干燥得到改性纳米多孔硅吸附剂。

4.根据权利要求3所述的一种用于As的多步改性纳米多孔硅吸附剂的制备方法,其特征在于,还包括:步骤(1)纯化处理的具体步骤为:

1)将金刚石线切割废料进行破碎并研磨至粒径为10~50μm的废硅粉;

2)将步骤1)的废硅粉置于室温下,在NH3·H2O、H2O2与H2O的混合溶液中浸泡搅拌2~6h,再分别采用无水乙醇和去离子水反复洗涤2~3次,干燥后得到初步纯化硅粉;

3)将步骤2)初步纯化硅粉置于室温下HCl、H2O2、H2O混合溶液中浸泡搅拌2~6h,再分别采用无水乙醇和去离子水洗反复洗涤2~3次,干燥后得到初步纯化硅粉;

4)将步骤3)处理的硅粉加入到氢氟酸溶液中,在室温条件下搅拌1~120min得到二次纯化硅粉,其中所述氢氟酸溶液浓度为0.05~2mol/L。

5.根据权利要求3所述的一种用于As的多步改性纳米多孔硅吸附剂的制备方法,其特征在于,所述步骤(4)中H2SO4/H2O2混合液中硫酸与双氧水的体积比为3~3.5:1,活化温度为室温~95℃。

6.根据权利要求3所述的一种用于As的多步改性纳米多孔硅吸附剂的制备方法,步骤(4)或为将步骤(3)的多孔硅加入到甲磺酸溶液中并在温度为室温~60℃条件下处理30~180min得到活化纳米多孔硅,或者将步骤(3)的多孔硅置于低压汞弧灯光下氧化处理30~180min得到活化纳米多孔硅。

7.根据权利要求3所述的一种用于As的多步改性纳米多孔硅吸附剂的制备方法,其特征在于,所述步骤(5)中无水甲苯与活化纳米多孔硅的液固比mL:g为20~30:1,活化纳米多孔硅与3-甘二氧基丙基三甲氧基硅烷的液固比mL:g为1~3:1。

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