[发明专利]具有扰流结构的光罩盒在审
| 申请号： | 201911141711.X | 申请日： | 2019-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN111830782A | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 庄家和;薛新民;林书弘;邱铭乾 | 申请（专利权）人： | 家登精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/66 | 分类号： | G03F1/66 |
| 代理公司： | 北京市浩天知识产权代理事务所(普通合伙) 11276 | 代理人： | 刘云贵 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 具有 结构 光罩盒 | ||
1.一种具有扰流结构的光罩盒，其特征在于，所述具有扰流结构的光罩盒包括：
本体，所述本体的中央区域有光罩置放区；以及；
盖体，盖合于所述本体，所述盖体的边缘区域与所述本体的边缘区域以凸部及凹部相互组合，所述凹部及所述凸部搭配形成环绕所述光罩置放区的扰流结构，
其中所述扰流结构包括在所述凹部及所述凸部之间的扰流通道，且所述本体在形成所述扰流通道的表面上具有至少内缩的侧壁，以形成集尘空间。
2.根据权利要求1所述的具有扰流结构的光罩盒，其特征在于，所述凹部设置于所述本体，所述凸部设置于盖体，所述凹部的一侧具有内缩的侧壁。
3.根据权利要求2所述的具有扰流结构的光罩盒，其特征在于，所述凹部的两侧皆具有内缩的侧壁。
4.根据权利要求1所述的具有扰流结构的光罩盒，其特征在于，所述凹部设置于所述盖体，所述凸部设置于本体，所述凸部的一侧具有内缩的侧壁。
5.根据权利要求4所述的具有扰流结构的光罩盒，其特征在于，所述凸部的两侧皆具有内缩的侧壁。
6.根据权利要求1所述的具有扰流结构的光罩盒，其特征在于，所述凸部的截面为矩形。
7.根据权利要求1所述的具有扰流结构的光罩盒，其特征在于，所述凸部的截面为圆弧形。
8.根据权利要求1所述的具有扰流结构的光罩盒，其特征在于，所述内缩的侧壁具有锐角。
9.根据权利要求1所述的具有扰流结构的光罩盒，其特征在于，所述内缩的侧壁具有圆角。
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G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
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