[发明专利]一种底层附着性良好的高磁感取向硅钢的制备方法

权利要求书

1.一种底层附着性良好的高磁感取向硅钢的制备方法，其步骤：

1）将经热轧、常化后的钢板一次冷轧至成品厚度；

2）进行脱碳退火：控制脱碳温度在823~853℃，脱碳退火气氛为湿式N₂与H₂的混合气，其中N₂占体积比在42-58%；气氛露点在35~42℃；经脱碳后碳含量控制在不超过0.003%，氧化层厚度在3.4~5.8μm，氧含量在0.0724~0.0986%；

3）涂覆隔离剂；

4）进行干燥，并控制隔离剂中氧化镁的含水率在2~4%；

5）采用三段保温方式进行高温退火：

第一阶段及本阶段的保温期间气氛均为纯N₂，气体流量在20-32m³/h；在升温速度为60~70℃/h下升温至650~750℃，并在此温度下进行保温，保温时间按照：

T₁= W_卷/2+200*Wo_MgO+(0~3.5) h

式中：T₁—表示保温时间，单位：h;

W_卷—表示单卷卷重，单位：吨，计算时仅用其数据；

Wo_MgO—表示隔离剂中氧化镁的含水率，单位：wt%，计算时仅用其数据；

后进行第二阶段升温，在升温速度为50~60℃/h下升温至800~850℃；此阶段气氛为纯N₂，气体流量在20~30m³/h，

后进行第三阶段升温：本阶段及本阶段的保温期间气氛均为N₂与H₂的混合气，其中N₂体积比不低于70%，混合气流量在12~21m³/h；在升温速度为10~20℃/h下升温至970~1000℃，并在此温度下进行保温，保温时间按照：

T₂ =10+H+（0～3）h

式中：T₂—表示保温时间，单位为h;

H—表示脱碳后氧化层厚度，单位为μm，计算时仅用其厚度数据；

后进行第四阶段升温：本阶段气氛为N₂与H₂的混合气，其中N₂体积比不低于70%，混合气流量在10~20m³/h；在升温速度为6~17℃/h下升温至1150~1210℃，并在此温度下进行保温15~30h，保温时采用纯H₂，流量同于升温期间；

6）进行拉伸平整退火，平整退火温度控制在450~516℃；

7）常规涂绝缘层并进行干燥；

上述方法适用于含硅量在3.0~3.25wt%的高磁感取向硅钢；

所述氧化镁隔离剂的组成及重量百分比含量为：硼酸钠与硼酸锂混合物：0.73~1.25%，含锶盐：0.4~1%，二氧化钛：4.0~4.7%，其余为氧化镁，外加上述原料总重量7~8倍的水；并将上述组成搅拌至均匀；

所述含锶盐为：硫酸锶或氯化锶或硝酸锶或其中两种及以上的混合物。

2.如权利要求1所述的一种底层附着性良好的高磁感取向硅钢的制备方法，其特征在于：所述硼酸钠与硼酸锂混合物 中，硼酸锂重量百分比含量在13~22%，其余为硼酸钠。

3.如权利要求1所述的一种底层附着性良好的高磁感取向硅钢的制备方法，其特征在于：所述含锶盐混合物中，氯化锶含量不超过总混合量的50%；当三种含锶物料一起添加时，除氯化锶含量不超过总混合量的50%，硫酸锶及硝酸锶以任意比例加入。

4.如权利要求1所述的一种底层附着性良好的高磁感取向硅钢的制备方法，其特征在于：所述硼酸钠与硼酸锂混合物在0.83~1.18wt%。