[发明专利]一种检测设备及检测方法

权利要求书

1.一种检测设备，其特征在于，所述检测设备包括：

第一检测系统，包括第一照明装置和第一探测装置，所述第一照明装置用于向待测物发射第一检测光，所述第一检测光在所述待测物表面形成第一光斑，所述第一检测光经所述待测物表面形成第一信号光；第一探测装置用于接收所述第一信号光，并根据所述第一信号光获取所述待测物表面的缺陷的尺寸；

第二检测系统，包括第二照明装置和第二探测装置，所述第二照明装置用于向所述待测物发射第二检测光，所述第二检测光在所述待测物表面形成第二光斑，所述第二光斑的亮度大于所述第一光斑的亮度，所述第二检测光经所述待测物表面形成第二信号光；第二探测装置用于接收所述第二信号光，并根据所述第二信号光获取所述待测物表面的检测信息。

2.根据权利要求1所述的检测设备，其特征在于，所述第一检测系统在所述待测物表面形成的检测区为第一检测区，所述第一检测区为条形；在沿所述第一检测区的延伸方向上，所述第一检测区的长度大于或等于所述待测物的待测区的最大尺寸。

3.根据权利要求2所述的检测设备，其特征在于，所述第一探测装置包括多个第一探测器，所述多个第一探测器的检测区沿所述第一检测区的延伸方向依次排列形成所述第一检测区。

4.根据权利要求3所述的检测设备，其特征在于，相邻的所述第一探测器的检测区接触或部分重叠。

5.根据权利要求1所述的检测设备，其特征在于，所述第一探测器包括第一镜头和第一感光器件，所述第一镜头用于收集所述第一信号光，并使所述第一信号光到达所述第一感光器件，所述第一感光器件与所述待测物的待测区共轭，所述第一镜头和第一感光器件的排列方向垂直于所述待测物的待测区表面。

6.根据权利要求2所述的检测设备，其特征在于，所述第二检测系统在所述待测物表面形成的检测区为第二检测区，所述第二探测装置包括多个第二探测器，所述多个第二探测器的检测区在所述待测物的待测区至少部分重合，重合部分形成所述第二检测区；

所述第一检测区为条形，所述多个第二探测器在垂直于所述待测物的待测区表面且平行于所述第一检测区延伸方向的平面内排列。

7.根据权利要求1所述的检测设备，其特征在于，所述第一照明装置为LED照明装置，所述第二照明装置为激光照明装置。

8.根据权利要求1所述的检测设备，其特征在于，所述第一检测系统在所述待测物表面形成的检测区为第一检测区，所述第二检测系统在所述待测物表面形成的检测区为第二检测区，所述第一检测区为条形，所述第二检测区位于所述第一检测区延伸方向所在直线的一侧。

9.根据权利要求8所述的检测设备，其特征在于，所述第二检测区为条形，所述第二检测区的延伸方向垂直于所述第一检测区的延伸方向。

10.根据权利要求8所述的检测设备，其特征在于，所述第二检测区与所述第一检测区的间距小于所述待测物的待测区沿所述间距方向的最大尺寸的一半。

11.根据权利要求1所述的检测设备，其特征在于，所述第一检测系统为暗场检测系统，所述第一检测光经所述待测物表面散射形成所述第一信号光，所述第一探测装置成像式收集所述第一信号光；所述第二检测系统为暗场检测系统，所述第二检测光经所述待测物表面散射形成所述第二信号光，所述第二探测装置成像式收集所述第二信号光。

12.根据权利要求1所述的检测设备，其特征在于，所述第一检测光的入射角与所述第二检测光的入射角相同；和/或，所述第一信号光的出射角与所述第二信号光的出射角相同。

13.根据权利要求1所述的检测设备，其特征在于，所述待测物表面的缺陷对所述第二检测光的吸收率大于对所述第二检测光的吸收率。