[发明专利]一种高透过率条纹变像管加速栅网制备方法

说明书

本发明公开了一种高透过率条纹变像管加速栅网制备方法。该制备方法包括的步骤有：1)原材料准备、2)镀膜、3)光刻、4)铬的湿法腐蚀、5)铜的湿法腐蚀、6)去铬膜、去胶和7)电镀。本发明的制备方法利用铬与铜的表面粘接性好的特点，具体采用在铜箔表面镀上一层铬、光刻并腐蚀铬做出铬金属掩膜版图案的方法，用金属掩膜图案替代光刻胶掩膜图案，用铬来做铜箔的掩膜，再腐蚀铜箔做出栅网。另外，传统的栅网开口比都在49％以下，本发明设计的栅网开口比在53.8％～68.2％之间，制备出的栅网具有更高的电子透过率。

技术领域

本发明涉及光电器件技术领域，尤其涉及一种高透过率条纹变像管加速栅网制备方法。

背景技术

栅网是条纹变像管等电子光学仪器的重要组成部件，具有良好的导电、导热性能和易加工、易除气特性。

栅网安装于条纹变像管的光电阴极后面,并相距光电阴极一定距离，可以大幅度提高光电子的加速场强，降低电子因初能量弥散和空间电荷效应而引起的时间和空间上的展宽，从而将条纹变像管的时间分辨率提升到ps量级。加速栅网可以形成强大的加速电场或栅网屏蔽场，现大量应用于条纹相机、分幅相机、电子衍射仪、离子能量分析仪、扫描电子显微镜、离子加速器等电子光学仪器中。

在条纹变像管这种高时间、空间分辨率的诊断仪器中，栅网的格条通常为几到十几微米，精度要求非常高。为了增加信号电子数量，提高条纹变像管的信噪比，需要扩大栅网网孔的面积，增加开口比。加速栅网可以使用铜箔光刻后腐蚀的方法制作出来，但是由于铜箔与光刻胶之间的粘附性不强，导致光刻后腐蚀的方法无法制作出完整的加速栅网。

传统的栅网开口比都在49％以下，业界需要发明一种制备方法，使制备出的栅网开口比更大、具有更高的电子透过率。满足高透过率条纹变像管的需求。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明提供了一种高透过率条纹变像管加速栅网制备方法，采用该方法制备出的栅网开口比在53.8％～68.2％之间，所制备出的栅网具有更高的电子透过率。

本发明的技术方案为：

一种高透过率条纹变像管加速栅网制备方法，包括以下步骤：

1)原材料准备，包括光刻掩膜版、3～6μm厚的铜箔、将铜箔用光刻胶和圆柱滚压工具平整粘覆在玻璃基底上；

2)镀膜，包括在铜箔的表面蒸镀铬和对铬的表面进行等离子体清刷；

3)光刻，包括先在铬表面涂覆一层增粘剂底胶液再均匀涂覆一层光刻胶、前烘、光刻、显影和坚膜；

4)铬的湿法腐蚀；

5)铜的湿法腐蚀；

6)去铬膜、去胶；

7)将铜栅网表面电镀一层镍。

所述步骤1)的具体步骤是：

1.1)设计并制作出栅网开口比为53.8％～68.2％时对应图案的光刻掩膜版，栅网由镂空方格A和格条B周期性重复组成，镂空方格A的尺寸范围为19～22μm，格条B的尺寸范围为4～8μm；

1.2)将3～6μm厚的双面抛光电解铜箔激光切割裁剪好，并用50ml冰醋酸、150g氯化钠、25ml盐酸、500ml去离子水配比的溶液进行酸洗，然后进行去离子水超声清洗、干燥；

1.3)用光刻胶和圆柱滚压工具将铜箔平整粘覆在玻璃基底上，称为C。

所述步骤2)的具体步骤是：

2.1)先用等离子体清刷机对C上的铜箔表面进行等离子体清刷5分钟，随后将C与特制的夹具配合水平固定在镀膜机里，在C上的铜箔的表面蒸镀一层的铬，称为D；