[发明专利]一种高透过率条纹变像管加速栅网制备方法

权利要求书

1.一种高透过率条纹变像管加速栅网制备方法，其特征在于包括以下步骤：

1)原材料准备，包括光刻掩膜版、3～6μm厚的铜箔、将铜箔用光刻胶和圆柱滚压工具平整粘覆在玻璃基底上；

2)镀膜，包括在铜箔的表面蒸镀铬和对铬的表面进行等离子体清刷；

3)光刻，包括先在铬表面涂覆一层增粘剂底胶液再均匀涂覆一层光刻胶、前烘、光刻、显影和坚膜；

4)铬的湿法腐蚀；

5)铜的湿法腐蚀；

6)去铬膜、去胶；

7)将铜栅网表面电镀一层镍；

所述步骤1)的具体步骤是：

1.1)设计并制作出栅网开口比为53.8％～68.2％时对应图案的光刻掩膜版，栅网由镂空方格和格条周期性重复组成，镂空方格尺寸A的范围为19～22μm，格条尺寸B的范围为4～8μm；

1.2)将3～6μm厚的双面抛光电解铜箔激光切割裁剪好，并用50ml冰醋酸、150g氯化钠、25ml盐酸、500ml去离子水配比的溶液进行酸洗，然后进行去离子水超声清洗、干燥；

1.3)用光刻胶和圆柱滚压工具将铜箔平整粘覆在玻璃基底上，称为C；

所述步骤2)的具体步骤是：

2.1)先用等离子体清刷机对C上的铜箔表面进行等离子体清刷5分钟，随后将C与特制的夹具配合水平固定在镀膜机里，在C上的铜箔的表面蒸镀一层的铬，称为D；

2.2)将D从镀膜机里取出，用等离子体清刷机对D上的铬膜层表面进行等离子体清刷5分钟。

2.根据权利要求1所述的高透过率条纹变像管加速栅网制备方法，其特征在于所述步骤3)具体步骤是：

3.1)先放置D于匀胶机上，在D的铬表面均匀涂覆一层增粘剂底胶液HMDS，再用500转/秒运行3秒，接着用5000转/秒运行30秒的匀胶速度，均匀涂覆一层光刻胶AZ6130，称为E；

3.2)前烘：将E放在热板上，用100℃烘烤2分钟后转移到光刻机上；

3.3)光刻：光刻机曝光时间设定为3.9s，曝光强度设定为30mW/cm²，对E上面的光刻胶进行曝光；

3.4)显影：将曝光好的E放置在配好的ZX238显影液里显影25s，用去离子水清洗干净，并用氮气吹干，称为F；

3.5)坚膜：将F放在热板上，用120℃烘烤3分钟，进行光刻胶坚膜处理。

3.根据权利要求2所述的高透过率条纹变像管加速栅网制备方法，其特征在于所述步骤4)具体步骤是：

4.1)配置好硝酸铈铵腐蚀液，将F放置到腐蚀液中，水浴30℃条件下腐蚀90秒；

4.2)将F取出，用去离子水清洗干净，氮气枪吹干。

4.根据权利要求3所述的高透过率条纹变像管加速栅网制备方法，其特征在于所述步骤5)具体步骤是：

5.1)配置好铜腐蚀液，将F放置到铜腐蚀液中，水浴40℃条件下腐蚀120秒；

5.2)将F取出，用去离子水清洗干净，氮气枪吹干，称为G。

5.根据权利要求4所述的高透过率条纹变像管加速栅网制备方法，其特征在于所述步骤6)具体步骤是：

6.1)将G放置到旋转台上，均匀喷洒丙酮溶液到G表面，将G上面的光刻胶去除，称为H；

6.2)将H放置到硝酸铈铵腐蚀液中，水浴30℃条件下腐蚀10分钟，待铬全部腐蚀干净，再取出，称为I；

6.3)将I用去离子水清洗干净，氮气枪吹干；

6.4)将I浸泡在丙酮溶液里溶解铜箔与玻璃基底之间的光刻胶；

6.5)将铜栅网从玻璃基底上取下来，进行清洗干燥处理。

6.根据权利要求1-5任一所述的高透过率条纹变像管加速栅网制备方法，其特征在于所述步骤7)具体步骤是：

7.1)将铜栅网表面电镀一层镍进行防氧化保护，完成加速栅网制作。