[发明专利]一种超高附着力复合板材颜色膜及其镀膜工艺

权利要求书

1.一种超高附着力复合板材颜色膜，包括位于复合板材背面依次镀制的过渡层及交替分布的介质膜膜层，其特征在于，所述过渡层可以是Si、Cr、In当中的任意一种材料构成，所述介质膜膜层是由高折射率层和低折射率层构成的薄膜，且高折射率层与低折射率层交替分布，其中低折射率层在下，高折射率层在上，所述高折射率层是H₄、SI₃N₄、TI₃O₅、NB₂O₅中的任意一种构成的材料，所述低折射率层是SiO₂或者AL₂O₃中的一种材料构成，还包括油墨，所述油墨丝印一层或几层在介质膜膜层表面。

2.根据权利要求1所述的一种超高附着力复合板材颜色膜，其特征在于，所述介质膜膜层为2层以上，最多可达20层。

3.根据权利要求1所述的一种超高附着力复合板材颜色膜，其特征在于，所述过渡层材料膜层厚度为0-5nm，其镀膜方式包括热蒸发和溅射镀膜。

4.根据权利要求1所述的一种超高附着力复合板材颜色膜，其特征在于，所述高折射率层材料的膜层厚度为10-1000nm，低折射率层材料的膜层厚度为10-1000nm。

5.根据权利要求1所述的一种超高附着力复合板材颜色膜的镀膜工艺，包括以下步骤：

步骤1：将PMMA或PC及其表面硬化处理或涂层处理后的复合板材表面保护膜去除后，使用打底胶带包好不锈钢基板作为工件，将复合板材粘在工件上两者结合牢固；

步骤2：用夹具装夹好工件送入真空环境中，镀膜前运用RF源放电对复合板材基片表面微观油污和灰尘进一步行清洁，以提高膜层附着力；

步骤3：将过渡层材料靶材硅靶、铬靶或铟靶的任意一种在工作气体的环境中进行磁控溅射，在复合板材衬底上沉积得到过渡层材料膜层，所述工作气体为氩气；

步骤4：将高折射率层材料靶材和低折射率层材料靶材在工作气体与反应气体的环境中进行磁控溅射，在复合板材衬底上依次沉积得到高折射率层氧化物薄膜和低折射率层氧化物薄膜，所述高折射率层与低折射率层交替分布，所述工作气体为氩气，反应气体为氧气；

步骤5：镀完后复合板材覆膜进入丝印工序，丝印一道或几道油墨后就得到本专利所述超高附着力复合板材颜色膜，经激光切割成客户要求大小就可以出货。

6.根据权利要求5所述的一种超高附着力复合板材颜色膜的镀膜工艺，其特征在于，所述步骤3中，氩气流量为250-350SCCM，磁控溅射的气压为1.0-6.0*10^-4Pa，磁控溅射的功率为5-15kw，磁控溅射的氧化功率为0kw。

7.根据权利要求5所述的一种超高附着力复合板材颜色膜的镀膜工艺，其特征在于，所述步骤4中，所述氩气：氧气体积比=（1~3）：（2~4）。

8.根据权利要求5所述的一种超高附着力复合板材颜色膜的镀膜工艺，其特征在于，所述步骤4中，优选的氩气流量为250-350SCCM，氧气流量150-450SCCM，优选的磁控溅射的气压为1.0-2.0*10^-3Pa，优选的磁控溅射的功率为7-15kw，优选的磁控溅射的氧化功率为0-3.5kw。

9.根据权利要求5所述的一种超高附着力复合板材颜色膜的镀膜工艺，其特征在于，所述过渡层材料靶材、高折射率层材料靶材及低折射率层材料靶材纯度为99.999%，靶材到复合板材基板的距离可以为2-5cm，且反应气体纯度99.99%。