[发明专利]抗振二维光学调整架和使用方法

说明书

一种抗振二维光学调整架和使用方法，该调整架包括镜框、底座和调节机构，该结构适用于振动环境中光学元件的夹持与调整，采用三组挡片与垫片，实现光学元件的固定，采用两个螺栓配合，实现光学元件的调节。旋转调节螺栓，调节螺栓带动镜框框架在竖直方向运动，分别转动三个调节螺栓，可实现光学元件俯仰、偏摆的调节。该支撑架便于调节、抗振动并且低应力变形，适用于光学设备装配时对光学元件进行一次性调整，在实现光学系统的功能后对调整机构进行固定，并且支撑调节结构产生的应力变形尽可能小。

技术领域

本发明光学调整架，特别是一种抗振二维光学调整架和使用方法。

背景技术

在光学系统中，光学元件需要按照一定位置进行放置，从而实现一定的功能，通常来说在光学设备中对光学元件的位置要求较高，在装配过程中光学元器件的安装总会从在一定的偏差，因此还需要对光学元器件进行微调。光学元件设置在光学调整架上，使光学调整架对光轴的方位角进行微调，以实现光学系统的功能。

目前，现有技术的光学调整架一般由固定板(镜座)、活动板(镜框)和将其相连接的置于同径圆周上的钢珠、弹簧以及螺杆构成，其中钢珠起支撑作用，弹簧起拉紧作用，螺杆用于对活动板进行相对于固定板的方位调整。这种光学调整架由于弹簧和螺杆组合的结构调整方便，但是导致抗振动能力差。

为实现对光轴的方位角进行调整，需要对调整架施加不同方向上的力与约束，通过不同作用力的配合，从而实现光学元件角度的调整。但是施加的力会导致调整架的形变，因此降低安装应力对光学元件面形的影响尤为重要。

为了提高光学元件在非实验室环境中工作的稳定性，避免在振动环境中光学调整架调整螺钉受力松动位移，需要对光学调整架的工作原理与工艺参数进行改进和优化，提高光学元件在光学设备中的稳定性是非常重要的。

因此设计出一款抗振的光学调整架是必要的。

发明内容

本发明的目的在于提供一种抗振二维光学调整架和使用方法，该方法使用三组调节机构，每组调节机构由螺栓与球面垫圈组成，球面垫圈有利于螺栓调节时结构内应力的释放，通过调节镜框框架三点的升降，实现光学元件俯仰偏摆的调节。

为达到上述目的，本发明采用的技术方案如下：

一种抗振二维光学调整架，其特点在于包括镜框、底座和调节机构，

在所述的底座的前方设有两个调节螺孔，后方设有一个调节螺孔；

所述的镜框包括后挡片、聚四氟乙烯薄片、螺丝、前挡块、镜框框架，所述的镜框框架具有置放光学元件镜孔，在所述的镜框框架的镜孔周沿三个均布的定位机构，每个定位机构包括所述的螺丝连接固定的后挡片、前挡块，在所述的镜框框架底端的前方设有两个调节螺孔，后方设有一个调节螺孔，与所述的底座的调节螺孔相对应；所述的后挡片安装在镜框框架的背面，所述的前挡块固定在所述的镜框框架的前面，在前挡块的内侧添加聚四氟乙烯薄片；

所述的调节机构包括三组：每组调节机构包括压紧螺栓、弹簧垫圈、上球面垫圈、调节螺栓、下球面垫圈和球面凸台，所述的调节机构的位置关系为：所述的球面凸台插入所述的底座的调节螺孔内的凹槽中，将所述的下球面垫圈放置在所述的球面凸台之上，两球面相接触，可自由滑动，所述的调节螺栓顶在所述的下球面垫圈的上平面，所述的镜框框架与所述的调节螺栓通过螺纹相连接，旋转调节螺栓可带动镜框框架的上下移动，再将所述的上球面垫圈置于所述的调节螺栓上端的凹球面内，在所述的上球面垫圈上添加所述的弹簧垫圈，将所述的压紧螺栓穿过所述的弹簧垫圈、上球面垫圈、调节螺栓、下球面垫圈、球面凸台并拧入所述的底座的调节螺孔中，将上述所有结构压紧。

上述抗振二维光学调整架的使用方法，包括下列步骤：