[发明专利]整合的混合NEMS质谱测定法有效

专利信息
申请号: 201911002458.X 申请日: 2016-01-22
公开(公告)号: CN110718442B 公开(公告)日: 2022-08-16
发明(设计)人: 迈克尔·L·洛克斯;A·A·马卡罗夫 申请(专利权)人: 加州理工学院;赛默飞世尔科技(布莱梅)有限公司
主分类号: H01J49/06 分类号: H01J49/06;H01J49/26;H01J49/42;H01J49/00
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 张瑞;杨明钊
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 整合 混合 nems 测定法
【权利要求书】:

1.一种质谱仪装置,包括:

至少一个混合质谱仪,所述至少一个混合质谱仪包括:

离子源,所述离子源用于从样本产生离子,

第一质谱系统,

第二质谱系统,所述第二质谱系统包括适于根据带电粒子的质荷比来分离所述带电粒子的至少一个质量分析器,

整合区,所述整合区将所述第一质谱系统和所述第二质谱系统耦合,所述整合区包括至少一个定向设备,所述至少一个定向设备用于可控地将所述离子按规定路线从所述整合区发送到所述第一质谱系统和所述第二质谱系统中的选定的一个或两个以在所述第一质谱系统和所述第二质谱系统中并行地或顺序地进行分析;其特征在于:

所述第一质谱系统包括纳机电质谱NEMS-MS系统,并且

所述至少一个混合质谱仪包括整合所述第二质谱系统和所述NEMS-MS系统的离子光学器件,其中,整合所述第二质谱系统和所述NEMS-MS系统的所述离子光学器件包括布置在所述整合区的至少一个定向设备和所述NEMS-MS系统之间的z-透镜的至少一个堆叠。

2.如权利要求1所述的装置,其中,所述z-透镜的至少一个堆叠是具有弯曲离子轨迹的透镜的堆叠。

3.如权利要求1至2中的任一项所述的装置,其中,整合所述第二质谱系统和所述NEMS-MS系统的所述离子光学器件包括布置在所述整合区的至少一个定向设备和所述NEMS-MS系统之间的聚焦透镜。

4.如权利要求3所述的装置,其中,所述NEMS-MS系统的NEMS芯片的表面位于距离所述聚焦透镜的端部约5mm的位置处。

5.如权利要求3所述的装置,其中,布置在所述整合区的至少一个定向设备和所述NEMS-MS系统之间的所述聚焦透镜适用于在所述NEMS-MS系统的NEMS阵列的整个表面上扫描在NEMS阵列的表面上进入的离子束,以扩散所述离子束的离子。

6.如权利要求4所述的装置,其中,布置在所述整合区的至少一个定向设备和所述NEMS-MS系统之间的所述聚焦透镜适用于在所述NEMS-MS系统的NEMS阵列的整个表面上扫描在NEMS阵列的表面上进入的离子束,以扩散所述离子束的离子。

7.如权利要求3所述的装置,其中,布置在所述整合区的至少一个定向设备和所述NEMS-MS系统之间的所述聚焦透镜是静电透镜组件的一部分。

8.如权利要求5所述的装置,其中,布置在所述整合区的至少一个定向设备和所述NEMS-MS系统之间的所述聚焦透镜是静电透镜组件的一部分。

9.如权利要求1或2所述的装置,其中,所述整合区包括传递四极。

10.如权利要求1或2所述的装置,其中,所述NEMS-MS系统包括至少一个NEMS谐振器,并且整合所述第二质谱系统和所述NEMS-MS系统的所述离子光学器件被配置使得只有具有小于100eV的平动动能的离子沉积在所述至少一个NEMS谐振器的表面上。

11.如权利要求1或2所述的装置,其中,所述NEMS-MS系统包括至少一个制冷子系统,所述至少一个制冷子系统允许将所述NEMS-MS系统冷却到环境温度之下。

12.如权利要求5所述的装置,其中,所述NEMS-MS系统包括至少一个制冷子系统,所述至少一个制冷子系统允许将所述NEMS-MS系统冷却到环境温度之下。

13.如权利要求1或2所述的装置,其中,所述NEMS-MS系统包括至少一个芯片,所述至少一个芯片包括至少一个NEMS谐振器,所述至少一个NEMS谐振器包括谐振器表面,所述谐振器表面适于使得当分析物被吸附到所述谐振器表面时避免分析物碎裂。

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