[发明专利]高效、稳定的超薄柔性太赫兹屏蔽材料的制备方法有效
申请号: | 201910951799.5 | 申请日: | 2019-10-09 |
公开(公告)号: | CN110545654B | 公开(公告)日: | 2020-09-04 |
发明(设计)人: | 黄毅;侯胜月;马文乐;李广浩 | 申请(专利权)人: | 南开大学 |
主分类号: | H05K9/00 | 分类号: | H05K9/00 |
代理公司: | 天津市杰盈专利代理有限公司 12207 | 代理人: | 赵尊生 |
地址: | 300071*** | 国省代码: | 天津;12 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 高效 稳定 超薄 柔性 赫兹 屏蔽 材料 制备 方法 | ||
1.一种金属/石墨烯层层组装复合薄膜材料在超薄柔性太赫兹屏蔽材料上的应用,该复合薄膜材料的厚度为40-160nm,金属为铜;金属基底的厚度为20-30μm;制备方法经过以下步骤:
1) 将20-30μm的铜箔清洗干净,然后置于1000℃管式炉中,在氩气的保护下,通入氢气,退火,然后通入甲烷,生长石墨烯,在氩气和氢气中自然降温;
2) 在生长有石墨烯的铜箔表面旋涂一层PMMA薄膜;
3) 将铜箔用CuSO4/HCl刻蚀液去除,其浓度为200 g/L CuSO4与浓盐酸1:1混合,得到PMMA薄膜支撑的石墨烯,清洗干净;
4) 在聚酰亚胺基底上通过真空蒸镀沉积一层铜薄膜;
5)将PMMA薄膜支撑的石墨烯转移到步骤4)聚酰亚胺基底的铜薄膜上,烘干,用丙酮清洗去除PMMA薄膜;
6) 交替重复上面铜薄膜的沉积和石墨烯的转移步骤,最终得到一层以上的铜/石墨烯复合薄膜材料。
2.根据权利要求1所述的应用,其特征在于所述的金属铜用镍、钌、钴、铱、钯、铂及其合金中的至少一种替换。
3.根据权利要求1所述的应用,其特征在于所述的交替重复上面铜薄膜的沉积和石墨烯的转移步骤,最终得到1-4层的铜/石墨烯复合薄膜材料,厚度40-160 nm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南开大学,未经南开大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910951799.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种金属网栅及电磁屏蔽光学窗
- 下一篇:料带接驳机