[发明专利]一种污水深度处理设备

权利要求书

1.一种污水深度处理设备，其特征在于，包括壳体，所述壳体内部沿水平方向依次设置有调节池、反应沉淀池、缺氧厌氧反应池、好氧接触反应池、二级沉淀池、消毒池、污泥浓缩池和设备间；所述调节池相对两侧壁上分别设置有废水进水管和第一出水管；

所述反应沉淀池内部通过两个第一分隔板沿污水流动方向分隔为氧化反应池、生物反应池和初级沉淀池，两个所述第一分隔板上部均开设有第一溢流口，所述第一出水管一端与所述氧化反应池的底部相连通，所述氧化反应池顶部通过加药管路与所述设备间内的药液箱相连通，所述氧化反应池内部设有搅拌装置，所述生物反应池内固定设置有若干对上固定板和下固定板，所述上固定板和下固定板之间安装若干串生物载体，所述初级沉淀池中部安装有斜管组件，所述氧化反应池、生物反应池和初级沉淀池底部均为倒梯形结构；

所述初级沉淀池上部通过第二出水管与所述缺氧厌氧反应池下部相连通，所述缺氧厌氧反应池内部通过两个第二分隔板沿污水流动方向分隔为兼氧反应室、缺氧反应室和厌氧反应室，两个所述第二分隔板上部均开设有第二溢流口，所述缺氧反应室和所述厌氧反应室内靠近于所述第二溢流口处均设置有折流板，所述折流板一端固定设置在所述缺氧反应室或所述厌氧反应室内顶部，所述折流板另一端向下延伸至靠近于所述缺氧反应室或所述厌氧反应室内底部处，且所述兼氧反应室、缺氧反应室和厌氧反应室底部均为倒梯形结构；

所述缺氧厌氧反应池中部通过第三出水管与所述好氧接触反应池中部相连通，所述第三出水管一端延伸至所述好氧接触反应池内，且所述第三出水管位于所述好氧接触反应池内一端设有布水三角锥，所述布水三角锥下方设置有曝气调控系统，所述布水三角锥上方设置有悬浮填料；

所述好氧接触反应池通过第四出水管与所述二级沉淀池相连通，所述二级沉淀池通过第五出水管与所述消毒池相连通；

所述调节池、氧化反应池、生物反应池、初级沉淀池、兼氧反应室、缺氧反应室和厌氧反应室、好氧接触反应池和二级沉淀池的底部均设置有排泥口，所述排泥口通过排泥管路与污泥浓缩池相连通。

2.根据权利要求1所述的污水深度处理设备，其特征在于，所述曝气调控系统包括鼓风机、送气管、纵向曝气管、横向曝气管和曝气分管，所述鼓风机位于所述设备间内，且所述鼓风机通过送气管与位于所述好氧接触反应池内一侧的纵向曝气管相连通，所述纵向曝气管上从上至下垂直连通有多个横向曝气管，所述横向曝气管一端固定连接在所述好氧接触反应池内侧壁上，多个所述横向曝气管上均匀开设有多个成对设置的分接口，所述分接口处均安装有水平设置的曝气分管，多个所述曝气分管均平行设置，且曝气分管与横向曝气管相垂直，所述曝气分管上部均匀开设有多个成对设置的曝气孔，成对设置的两个所述曝气孔与曝气分管中心轴线形成的夹角为90度。

3.根据权利要求2所述的污水深度处理设备，其特征在于，所述好氧接触反应池内中上部安装有溶解氧测量仪。

4.根据权利要求1所述的污水深度处理设备，其特征在于，所述初级沉淀池内靠近于所述第一溢流口处设置有挡板，所述挡板一端固定设置在所述初级沉淀池内顶部，所述挡板另一端设置有45度的转角，所述挡板与位于初级沉淀池和生物反应池之间的第一分隔板之间形成用于污水流入初级沉淀池的污水通道。

5.根据权利要求4所述的污水深度处理设备，其特征在于，所述挡板底部处于所述第一分隔板上第一溢流口下方20-30cm处。

6.根据权利要求1所述的污水深度处理设备，其特征在于，所述二级沉淀池底部设置有与所述好氧接触反应池相连通的污泥回流管。

7.根据权利要求1所述的污水深度处理设备，其特征在于，所述消毒池通过消毒液管与位于所述设备间的二氧化氯发生器相连接。