[发明专利]滤波器单元的调整方法和等离子体处理装置在审
申请号: | 201910858113.8 | 申请日: | 2019-09-11 |
公开(公告)号: | CN111081518A | 公开(公告)日: | 2020-04-28 |
发明(设计)人: | 永岛望;油井隆一 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 滤波器 单元 调整 方法 等离子体 处理 装置 | ||
本发明提供滤波器单元的调整方法和等离子体处理装置。减小针对电性构件设置的滤波器单元的频率特性的偏差。等离子体处理装置中的滤波器单元的调整方法包括第一测定工序和调整工序。在第一测定工序中,测定多个滤波器单元中的作为基准的滤波器单元的频率特性。在调整工序中,调整除作为基准的滤波器单元以外的滤波器单元的频率特性。在调整工序中包括安装工序、第二测定工序以及单独调整工序。在安装工序中,安装用于调整滤波器单元内的配线的电容的电容构件。在第二测定工序中,测定安装有电容构件的滤波器单元的频率特性。在单独调整工序中,调整电容构件的电容,使得安装有电容构件的滤波器单元的频率特性接近作为基准的滤波器单元的频率特性。
技术领域
本公开的各种方面和实施方式涉及一种滤波器单元的调整方法和等离子体处理装置。
背景技术
在半导体器件的制造工序中,有时进行利用等离子体的处理(以下记载为“等离子体处理”)。用于进行等离子体处理的等离子体处理装置例如具备腔室、载置台以及高频电源等。在等离子体处理中,通过经由载置台供给至腔室内的高频电力,来激励被供给至腔室内的处理气体,从而生成等离子体。而且,利用所生成的等离子体,来对被载置于载置台上的被处理体实施蚀刻、成膜等等离子体处理。
另外,等离子体处理装置有时为了调整被处理体的温度而在载置台内内置加热器。加热器与加热器控制器连接,所述加热器控制器通过控制向加热器供给的电源来控制加热器产生的加热量。在这样的等离子体处理装置中,供给至载置台的高频电力经由加热器流入加热器控制器,因此有时引起加热器控制器的故障、误动作。为了防止该问题,在加热器与加热器控制器之间的线路上设置用于去除高频电力的分量的滤波器。作为这样的滤波器,例如有时使用包括线圈等无源部件的分布常数型的滤波器。
另外,为了提高被处理体的温度分布的控制精度,有时将载置台分割为多个区域,来独立地控制设置于各个区域中的加热器。
专利文献1:日本特开2011-135052号公报
发明内容
本公开提供一种能够减小针对各个电性构件设置的滤波器单元的频率特性的偏差的滤波器单元的调整方法和等离子体处理装置。
本公开的一个方面是一种等离子体处理装置中的滤波器单元的调整方法,所述等离子体处理装置具备:多个电性构件,所述多个电性构件设置于利用所生成的等离子体对被处理体进行处理的腔室内;以及外部电路,其设置于腔室的外部,所述外部电路经由包括线圈的滤波器单元来与各个电性构件连接,其中,各个滤波器单元被金属壳体覆盖,所述滤波器单元的调整方法包括第一测定工序和调整工序。在第一测定工序中,测定多个滤波器单元中的作为基准的滤波器单元的频率特性。在调整工序中,针对多个滤波器单元中的除作为基准的滤波器单元以外的各个滤波器单元,调整滤波器单元的频率特性。另外,调整工序中包括安装工序、第二测定工序以及单独调整工序。在安装工序中,安装用于调整滤波器单元内的配线的电容的电容构件。在第二测定工序中,测定安装有电容构件的滤波器单元的频率特性。在单独调整工序中,调整电容构件的电容,使得安装有电容构件的滤波器单元的频率特性接近作为基准的滤波器单元的频率特性。
根据本公开的各种方面和实施方式,能够减小针对各个电性构件设置的滤波器单元的频率特性的偏差。
附图说明
图1是表示本公开的第一实施方式中的等离子体蚀刻装置的一例的概要截面图。
图2是表示静电卡盘的区域的分割方式的一例的俯视图。
图3A是表示本公开的第一实施方式中的滤波器单元的一例的框图。
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