[发明专利]一种单向螺旋COF涂布滚轮

说明书

本发明公开了一种单向螺旋COF涂布滚轮，包括将光刻胶带出的下涂布滚轮，以及用于转移下涂布滚轮上的光刻胶、并涂抹在COF基材的上涂布滚轮；所述上涂布滚轮上设有螺旋状沟槽。本发明有益技术效果：当光刻胶黏度降低时，上涂布滚轮上的螺旋状沟槽，实现光刻胶在产品上均匀涂布，降低在涂布光刻胶过程中产生的回流。

技术领域

本发明涉及一种单向螺旋COF涂布滚轮，属于制备COF装置技术领域。

技术背景

COF——Chip On Film，一种覆晶薄膜。通过在由绝缘薄膜和金属层构成的COF基材上形成线路图案，在线路图案的规定区域进行电镀、设置阻焊剂等表面加工，然后再器件搭载区域搭载IC等电子元器件，形成COF产品，组装在其他电路板上使用。

其中，在COF基材（40）的金属层上涂布一层光刻胶，其工作原理是：涂布单元中的下涂布滚轮（20）转动，将光刻胶从储存槽（30）带出，涂布单元中的上涂布滚轮（10）沿与下涂布滚轮（20）相反的方向转动，光刻胶从下涂布滚轮（10）传递到上涂布滚轮（20），然后通过一定的压力，使光刻胶附着在COF基材（40）的金属层表面，形成一层均匀的光刻胶薄膜，用以加工形成线路。如图1所示。

在现有的技术中，为了能涂布一层均匀的光刻胶，如图2所示，通常会在涂布单元的上涂布滚轮（10）上设置具有一定间隔排列的沟槽（11），涂布单元转动时，光刻胶带出充满上涂布滚轮（10）的沟槽（11）后，进行光刻胶涂布。从而达到光刻胶涂布在产品上时，光刻胶在COF基材（40）的金属层上形成一层全覆盖的光刻胶薄膜。然而，现有的这种间隔排列沟槽（11）的上涂布滚轮（10）仅能对应黏度≥5.0cP的光刻胶涂布，当光刻胶黏度低于5.0cP时，光刻胶会因重力作用沿着上涂布滚轮（10）的沟槽（11）回流，造成无法涂布或涂布上的光刻胶不均匀，导致无法形成正常线路，影响产品良率。

发明内容

为了克服上述现有技术的不足，本发明提供了一种适用于光刻胶黏度低于5.0cP的涂布，能够均匀的将光刻胶涂布在COF基材的金属层上，具体涉及一种单向螺旋COF涂布滚轮，包括将光刻胶带出的下涂布滚轮，以及用于转移下涂布滚轮上的光刻胶、并涂抹在COF基材的上涂布滚轮；所述上涂布滚轮上设有螺旋状沟槽。

作为本发明所述的一种单向螺旋COF涂布滚轮的优选方案：所述螺旋状沟槽为左螺旋状沟槽或右螺旋状沟槽。

作为本发明所述的一种单向螺旋COF涂布滚轮的优选方案：所述螺旋状沟槽，其螺旋角度α为0 < α < 90°，沟槽宽度L为0.1~0.8mm，沟槽深度H为0.1~0.8mm，沟槽间距M为0.1~0.5mm。

作为本发明所述的一种单向螺旋COF涂布滚轮的优选方案：所述上涂布滚轮的转动方向应与COF基材运动方向相同。

作为本发明所述的一种单向螺旋COF涂布滚轮的优选方案：所述下涂布滚轮与所述上涂布滚轮转动方向相反。

本发明有益技术效果：

当光刻胶黏度降低时，上涂布滚轮上的螺旋状沟槽，实现光刻胶在产品上均匀涂布，降低在涂布光刻胶过程中产生的回流。

附图说明

图1是COF基材的金属层上涂布光刻胶工作原理示意图；

图2是现有上涂布滚轮结构示意图；

图3是本发明上涂布滚轮结构示意图；

图中：10-上涂布滚轮；11-沟槽；20-下涂布滚轮；30-储存槽；40-COF基材。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合说明书附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。