[发明专利]晶圆级光学结构及其形成的方法在审

专利信息
申请号: 201910764004.X 申请日: 2019-08-19
公开(公告)号: CN111090135A 公开(公告)日: 2020-05-01
发明(设计)人: 张志圣;黄腾德;许书豪;詹竣宇 申请(专利权)人: 奇景光电股份有限公司
主分类号: G02B3/00 分类号: G02B3/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 韩宏
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 晶圆级 光学 结构 及其 形成 方法
【权利要求书】:

1.一种晶圆级光学结构,包括:

光学上透明的晶圆;

设置在所述光学上透明的晶圆上的至少两个光学透镜组,其中所述至少两个光学透镜组中的每一者,都包括与一残留层整合成一体的透镜;

位在所述光学上透明的晶圆上的至少一条沟槽,其中所述至少一条沟槽位在两个相邻的所述至少两个光学透镜组之间,以分隔相邻的所述至少两个光学透镜组;

设置在所述光学上透明的晶圆上的至少一间隔片,其中所述至少一枚间隔片设置在相邻的所述至少两个光学透镜组之间,以对应地部分位在所述至少一条沟槽中的一条中;以及

位在所述至少一条沟槽中的一条内的粘合剂,并与所述至少一枚间隔片中的一枚直接接触。

2.根据权利要求1所述的晶圆级光学结构,其中所述至少两个光学透镜组中的每一者,都还进一步包括一延伸肩部,并且所述延伸肩部不与相邻的所述至少一枚间隔片接触。

3.根据权利要求2所述的晶圆级光学结构,其中相邻的所述延伸肩部中的两者,界定所述至少一条沟槽中的一条。

4.根据权利要求2所述的晶圆级光学结构,其中所述粘合剂与所述延伸肩部直接接触。

5.根据权利要求1所述的晶圆级光学结构,其中所述粘合剂与所述光学上透明的晶圆直接接触。

6.根据权利要求1所述的晶圆级光学结构,进一步包括:

多个所述沟槽,且所述多个沟槽具有可变的宽度。

7.根据权利要求1所述的晶圆级光学结构,进一步包括:

光学上透明的基板,设置在所述至少一枚间隔片上。

8.根据权利要求7所述的晶圆级光学结构,其中在借助于所述粘合剂,将所述光学上透明的基板接合到所述至少一枚间隔片上。

9.根据权利要求7所述的晶圆级光学结构,进一步包括:

至少两个成像光学透镜组,其设置在所述光学上透明的基板上,并分别对应于所述至少两个光学透镜组。

10.根据权利要求1所述的晶圆级光学结构,进一步包括:

至少两个底部光学透镜组,其设置在所述光学上透明的晶圆上、位于所述至少两个光学透镜组的下方、并分别对应于所述至少两个光学透镜组。

11.一种形成晶圆级光学结构的方法,包括:

提供光学上透明的晶圆,其具有设置在所述光学上透明的晶圆上的一层残留层,并且具有设置在所述残留层上的至少两枚透镜,其中所述至少两枚透镜中的每一者,都分别与所述残留层整合成一体;

部分地移除位在两个相邻的所述至少两个透镜之间的所述残留层,以形成至少一条沟槽,并一起形成至少两个光学透镜组,其中所述至少两个光学透镜组中的每一者,都包括与所述残留层整合成一体的所述透镜;

将粘合材料来填入所述至少一条沟槽中;

提供间隔片,使得所述间隔片部分地容置在所述至少一条沟槽中,以分隔相邻的所述至少两个光学透镜组中的两者;以及

熟化所述粘合材料而成为一粘合剂。

12.根据权利要求11所述的形成晶圆级光学结构的方法,其中使用激光处理来移除所述残留层。

13.根据权利要求11所述的形成晶圆级光学结构的方法,其中所述至少一条沟槽暴露所述光学上透明的晶圆。

14.根据权利要求11所述的形成晶圆级光学结构的方法,其中所述粘合剂选自由一紫外光(UV)可熟化粘合剂、一热可熟化粘合剂以及一压感粘合剂(PSA)所组成的群组。

15.根据权利要求11所述的形成晶圆级光学结构的方法,其中移除所述残留层的同时形成一延伸肩部,并且所述延伸肩部连接于与所述延伸肩部相邻的所述至少两个光学透镜组中的一者。

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