[发明专利]一种连续式硅碳负极动态CVD烧结炉

权利要求书

1.一种连续式硅碳负极动态CVD烧结炉，其特征在于：包括安装平台(1)、螺旋进料器(2)、炉头罩(3)、炉管(4)和炉尾罩(5)，所述炉管(4)可转动的安装在安装平台(1)上，所述炉管(4)的头端位于炉头罩(3)内且尾端位于炉尾罩(5)内，所述螺旋进料器(2)与炉头罩(3)密封对接，且螺旋进料器(2)的螺旋轴(6)穿过炉头罩(3)与炉管(4)对接，所述炉尾罩(5)上设有出料口，所述炉管(4)头端于炉头罩(3)之外的部分设有第一密封法兰(7)，所述第一密封法兰(7)与炉头罩(3)之间设有第一波纹管(8)，所述第一密封法兰(7)与第一波纹管(8)之间密封连接，且二者连接处的外周套有第一抽气罩(9)，所述炉管(4)尾端于炉尾罩(5)之外的部分设有第二密封法兰(10)，所述第二密封法兰(10)与炉尾罩(5)之间设有第二波纹管(11)，所述第二密封法兰(10)与第二波纹管(11)之间密封连接，且二者连接处的外周套有第二抽气罩(12)，所述炉管(4)的头端设有一锥形内胆(44)，所述炉管(4)的入口为锥形内胆(44)的入口，所述炉管(4)与锥形内胆(44)的外壁之间设有隔热棉(45)，所述安装平台(1)上设有可敲击炉管(4)的炉管气锤(46)；所述炉管(4)的中间部分套有保温套(47)，所述炉管(4)下端与保温套(47)的间隙内设有加热装置(48)。

2.根据权利要求1所述的连续式硅碳负极动态CVD烧结炉，其特征在于：所述第一抽气罩(9)的圆周方向设有一个主抽气管(13)和多个间隔的支抽气管(14)，各支抽气管(14)均与主抽气管(13)连通，所述第二抽气罩(12)的圆周方向设有一个主抽气管(13)和多个间隔的支抽气管(14)，各支抽气管(14)均与主抽气管(13)连通。

3.根据权利要求1所述的连续式硅碳负极动态CVD烧结炉，其特征在于：所述螺旋进料器(2)的上游设有上料装置，所述上料装置包括上料仓(15)和进料缓冲仓(16)，所述进料缓冲仓(16)设有进料口、出料口、进气口和出气口，所述进料缓冲仓(16)的进料口与上料仓(15)对接，且出料口与螺旋进料器(2)的入口密封对接。

4.根据权利要求3所述的连续式硅碳负极动态CVD烧结炉，其特征在于：所述上料装置还包括称重仓(17)，所述称重仓(17)的底部设有称重器(18)，所述称重仓(17)通过上料管(19)与上料仓(15)连接；所述炉尾罩(5)设有主进气口(20)，所述主进气口(20)连接一进气管(21)，所述进气管(21)位于炉管(4)内，所述主进气口(20)设有流量计(22)。

5.根据权利要求4所述的连续式硅碳负极动态CVD烧结炉，其特征在于：所述炉尾罩(5)的下游设有出料缓冲仓(23)，所述出料缓冲仓(23)设有进料口、出料口、进气口和出气口，所述进料口与炉尾罩(5)的出料口对接；所述进料缓冲仓(16)、称重仓(17)和出料缓冲仓(23)的外侧对应设有一用于敲打各仓体的仓体气锤(24)。

6.根据权利要求1至5任意一项所述的连续式硅碳负极动态CVD烧结炉，其特征在于：所述螺旋进料器(2)内设有防止堵料的破拱轴(25)，所述破拱轴(25)设有叶片(26)，所述破拱轴(25)连接一驱动机构(27)。