[发明专利]一种一氯频哪酮脱熔升温反应釜

权利要求书

1.一种一氯频哪酮脱熔升温反应釜，其特征在于：包括

一反应釜体；所述反应釜体包括上封盖和筒体；所述上封盖置于筒体的上端，所述上封盖上设置有搅拌孔和人孔；所述上封盖呈圆形结构，搅拌孔位于上封盖的中间位置，搅拌孔的四周辐射分布有安全阀口、视镜口、放气口、温度计套管口、压力表口和备用口，所述人孔分布于搅拌孔的一侧；所述筒体呈圆柱筒型结构，筒体的外侧壁自上而下均匀分布有若干环形凹槽，所述筒体的底端设置有进气口；

一金属保护层；所述金属保护层设置在反应釜体的外侧，所述金属保护层包括上封盖金属保护层和筒体金属保护层；上封盖金属保护层置于上封盖的外表面，上封盖金属保护层的外侧面底端有一上法兰，筒体金属保护层置于筒体的外表面，该筒体金属保护层的外侧面上端有一下法兰，上法兰与下法兰之间用组合螺栓连接；

一氯气导向管；所述氯气导向管由筒体底端进气口向上竖直延伸；所述氯气导向管包括石墨管体和螺旋孔；所述石墨管体呈圆柱状，两端开口，石墨管体的底端外圆周轮廓面设置有连接螺纹；所述螺旋孔位于石墨管体的侧边顶端，螺旋孔具有若干个，螺旋孔在石墨管体的侧边径向方向上等间距依次设置；石墨管体的侧边轴向上相邻两列的螺旋孔呈上下交替错位设置；所述螺旋孔的打孔方向沿着石墨管体圆柱外轮廓指向石墨管体的轴线方向与石墨管体轴线和打孔点形成的平面呈夹角打孔。

2.根据权利要求1所述的一种一氯频哪酮脱熔升温反应釜，其特征在于：所述筒体的侧边的环形凹槽与金属保护层形成水浴夹套结构，且该水浴夹套内充有温水；所述筒体的底端与筒体金属保护层之间形成水浴容纳腔且该腔内填充有流动的温水。

3.根据权利要求1所述的一种一氯频哪酮脱熔升温反应釜，其特征在于：所述螺旋孔的打孔方向与石墨管体外轮廓上打孔点的法线方向呈25°夹角；气体螺旋上升导向管的展开螺旋孔呈水平方向等间距，竖直方向交错分布。

4.根据权利要求1所述的一种一氯频哪酮脱熔升温反应釜，其特征在于：所述氯气导向管具有若干个且互相堆叠设置。