[发明专利]针对光学源中的干扰的补偿

说明书

接收从光学源发射的脉冲光束，脉冲光束与时间重复率相关联；确定光学源中的干扰的频率，频率是随着脉冲光束的时间重复率变化的混叠频率；基于混叠频率生成校正波形；以及通过基于生成的校正波形修改脉冲光束的特性来补偿光学源中的干扰。

本申请是国际申请号为PCT/US2015/063802、国际申请日为2015年12月3日、中国申请号为201580066989.9的发明专利申请的分案申请。

技术领域

所公开的主题涉及对光学源中的干扰的主动拒绝。

背景技术

光刻是将半导体电路装置图案化在诸如硅晶片等的衬底上所采用的工艺。光刻光源提供用于使晶片上的光致抗蚀剂曝光的深紫外(DUV)光。用于光刻的DUV光通过准分子光源生成。往往，光源是激光源并且脉冲光束是脉冲激光束。光束被传递通过光束传递单元、通过掩模版(或掩模)被滤光并接着被投影到准备好的硅晶片上。以该方式，将芯片设计图案化到光致抗蚀剂上，接着对其进行蚀刻和清洁，并且接着重复该过程。

发明内容

在一个总体方面中，一种补偿光学源中的干扰的方法包括：接收从光学源发射的脉冲光束，脉冲光束与时间重复率相关联；确定光学源中的干扰的频率，该频率是随着脉冲光束的时间重复率变化的混叠频率；基于混叠频率生成校正波形；以及通过基于生成的校正波形修改脉冲光束的特性来补偿光学源中的干扰。

实施方式可以包括以下特征中的一个或多个。通过基于生成的校正波形修改脉冲光束的特性来补偿光学源中的干扰可以包括将校正波形应用于光学组件，该光学组件包括被定位成与在光学源中传播的光相互作用的光学元件，将校正波形应用于光学组件足以使光学元件移动。脉冲光束的特性可以包括脉冲光束的波长。校正波形可以包括与干扰的幅度基本相同的幅度和相对于干扰的相位被偏移的相位。校正波形的相位可以相对于干扰的相位被偏移一百八十度。

干扰的频率可以包括彼此分离且不同的多个频率。多个频率可以包括与干扰相关联的基波频率以及基波频率的一个或多个谐波。

在一些实施方式中，方法还包括基于确定的光学源中的干扰的混叠频率来估计与干扰相关联的状态，并且其中基于混叠频率生成校正波形包括基于估计的与干扰相关联的状态而生成校正波形。与干扰相关联的状态可以包括第一状态和第二状态。第一状态可以是同相分量，并且第二状态可以是正交分量。基于估计的状态生成校正波形可以包括生成具有基于同相分量和正交分量的矢量和的幅度以及基于正交分量与同相分量的比率的相位的波形。

在一些实施方式中，方法还包括：在补偿干扰之前确定从光学源发射的脉冲光束的第一频谱，第一频谱包括在干扰的频率处的第一功率量；以及在补偿干扰之后确定从光学源发射的第二脉冲光束的第二频谱，第二频谱包括在干扰的频率处的第二功率量，第二功率量小于第一功率量。在经补偿的干扰的频率处第二功率量可以比第一功率量小至少5分贝(dB)。

可以测量时间重复率。可以接收包括时间重复率的数据。

可以基于脉冲光束的时间重复率确定光学源中的干扰的频率。基于时间重复率确定干扰的频率可以包括：访问频率映射，频率映射包括取决于时间重复率的干扰的频率，以及从访问的频率映射确定与访问的时间重复率相关联的干扰的频率。频率映射可以包括针对每个时间重复率的多个频率。

确定干扰的频率可以包括接收包括干扰的频率的值的数据。

光学元件可以被定位成选择在室中传播的光的光谱特征，并且使光学元件移动可以改变光的选择的光谱特征。光谱特征可以是在室中传播的光的波长。光学元件可以是使在室中传播的光透射的光学元件。光学元件可以是棱镜。

光学源可以包括增益介质，在光学源中传播的光可以沿着光束路径并且在增益介质中传播，光学元件可以沿着光束路径被定位，并且源中的干扰可以包括沿着光束路径在增益介质中创建异质性的干扰。光学源中的干扰可以包括由使增益介质在室中循环的风扇的运动引起的声学干扰。