[发明专利]一种基于EPI的光场图像关键位置检测方法有效
申请号: | 201910735223.5 | 申请日: | 2019-08-09 |
公开(公告)号: | CN110580481B | 公开(公告)日: | 2022-01-11 |
发明(设计)人: | 金海燕;边敏艳;肖照林;蔡磊;李秀秀 | 申请(专利权)人: | 西安理工大学 |
主分类号: | G06V10/44 | 分类号: | G06V10/44;G06V10/60 |
代理公司: | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人: | 杜娟 |
地址: | 710048 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 epi 图像 关键 位置 检测 方法 | ||
本发明一种基于EPI的光场图像关键位置检测方法:步骤1、对光场图像进行解码得到四维光场矩阵;步骤2、得到光场图像的中心行、中心列子孔径图像;步骤3、提取3D水平EPI立方体和3D垂直EPI立方体;步骤4、确定多个尺度上都被检测到的特征点;步骤5、处理得到关键位置线;步骤6、确定得到光场图像上稳定的特征点即光场关键位置;步骤7、删除重复的光场关键位置,最终得到光场图像上所有关键位置。本发明一种基于EPI的光场图像关键位置检测方法,克服了现有的光场图像特征检测方法检测出的特征点不稳定问题,能够准确检测到光场图像上稳定的关键位置,具有鲁棒性且时间复杂度低,适用于不同场景。
技术领域
本发明属于数字图像处理技术领域,具体涉及一种基于EPI的光场图像关键位置检测方法。
背景技术
光场相机由于是通过记录光束方向数据信息原理成像,成像可以用位置信息和角度信息获得整个空间的真实信息,克服了传统成像存在遮挡,丢失深度等缺点,对场景的描述更加全面,而广泛应用于多个视点的立体图像显示和安防监控领域。
对光场图像特征检测是目前研究的热点,现有的光场图像特征检测方法有跨视图重复sift特征检测方法和LIFF光场特征点检测方法:跨视图重复sift特征检测方法有计算量大,检测出的特征点不具有鲁棒性等缺点;LIFF光场特征点检测方法有时间复杂度大,焦点堆栈的斜率不具有自适应等缺点。
发明内容
本发明的目的在于提供一种基于EPI的光场图像关键位置检测方法,克服了现有的光场图像特征检测方法检测出的特征点不稳定问题。
本发明所采用的技术方案是,一种基于EPI的光场图像关键位置检测方法,具体按照以下步骤实施:
步骤1、对原始的光场图像name_LensletRaw.bmp进行解码得到四维光场矩阵LF[u,v,s,t];
步骤2、利用MATLAB对四维光场矩阵LF[u,v,s,t]进行提取,再对提取得到的中心行、中心列子孔径图像进行灰度化处理;
步骤3、在灰度化处理后的中心行、中心列子孔径图像上提取3D水平EPI立方体和3D垂直EPI立方体;
步骤4、对灰度化处理后的中心行、中心列子孔径图像进行多尺度Harris特征点检测,确定光场图像上在多个尺度上都被检测到的特征点;
步骤5、将经步骤4得到的特征点投影到经步骤3得到的相应EPI立方体上对应的EPI图像上,处理得到关键位置线;
步骤6、对特征点投影之后的每个EPI图像先进行hough线检测再滤波,确定得到光场图像上稳定的特征点即光场关键位置;
步骤7、删除重复的光场关键位置,并将剩下的光场关键位置显示在光场图像name_LensletRaw.bmp上,最终得到光场图像上所有关键位置。
本发明的特点还在于:
步骤2具体按照以下步骤实施:
步骤2.1、对四维光场矩阵LF[u,v,s,t]进行如式(2)的处理得到四维光场矩阵LF[u,v,s,t]的中心行u1和中心列v1,所述式(2)如下所示:
步骤2.2、使用MATLAB中的squeeze函数分别提取四维光场矩阵LF[u,v,s,t]中心行u1和中心列v1的视图:LF(u1,v1,s,t),即光场图像的中心行、中心列子孔径图像,并编号为sub_num,再使用MATLAB中的rgb2gray函数将中心行、中心列子孔径图像灰度化。
步骤3具体按照以下步骤实施:
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