[发明专利]壳体组件及其制备方法和电子设备

说明书

本发明涉及一种壳体组件及其制备方法和电子设备。该壳体组件包括透明基底和反射单元，透明基底具有装饰表面，装饰表面上设有间隔的第一粗糙区域和第二粗糙区域；及反射单元设置在装饰表面上，并覆盖至少部分第一粗糙区域。上述壳体组件的样式丰富。

技术领域

本发明涉及电子设备领域，特别是涉及一种壳体组件及其制备方法和电子设备。

背景技术

随着生活水平的不断提高，智能手机、平板电脑等电子设备已经广泛应用于工作和生活的各个方面。随着电子设备行业的发展，市场竞争日益加剧。为了吸引更多客户，越来越多的研究将注意力集中在电子设备的外观效果上。一些研究通过改变电子设备外壳的材质，以提高其外观效果。然而，这些电子设备外壳的样式单一，不能满足实际需求。

发明内容

基于此，有必要提供一种样式丰富的壳体组件。

此外，还提供一种壳体组件的制备方法和电子设备。

一种壳体组件，包括：

透明基底，具有装饰表面，所述装饰表面上设有间隔的第一粗糙区域和第二粗糙区域；及

反射单元，设置在所述装饰表面上，并覆盖至少部分所述第一粗糙区域。

上述壳体组件包括透明基底和反射单元，透明基底具有装饰表面，装饰表面上设有间隔的第一粗糙区域和第二粗糙区域，使得壳体组件在装饰表面的不同区域呈现磨砂效果，反射单元设置在装饰表面上，能够增加壳体组件对光的反射率，使得壳体组件具有光泽度和亮度，且反射单元覆盖至少部分第一粗糙区域，使得壳体组件在反射单元和第一粗糙区域的叠加处既具有磨砂效果，又具有光泽度和亮度，使得壳体组件的样式丰富。

在其中一个实施例中，所述第二粗糙区域露出于所述反射单元。

在其中一个实施例中，所述第一粗糙区域为多个，多个所述第一粗糙区域间隔设置，每个所述第一粗糙区域均覆盖有所述反射单元。

在其中一个实施例中，所述反射单元覆盖相邻所述第一粗糙区域之间的间隙。

在其中一个实施例中，所述反射单元包括间隔设置在所述装饰表面上的第一反射部和所述第二反射部，所述第一反射部和所述第二反射部分别完全覆盖所述第一粗糙区域和所述第二粗糙区域。

在其中一个实施例中，所述第一粗糙区域为多个，多个所述第一粗糙区域间隔设置，所述第一反射部覆盖多个所述第一粗糙区域。

在其中一个实施例中，所述第一粗糙区域的表面粗糙度为0.1μm～0.2μm；

及/或，所述第二粗糙区域的表面粗糙度为0.1μm～0.2μm；

及/或，所述第一粗糙区域的雾度为20％～40％

及/或，所述第二粗糙区域的雾度为20％～40％。

在其中一个实施例中，所述反射单元包括依次层叠设置在所述装饰表面上的第一二氧化硅层、第一五氧化二铌层、第二二氧化硅层、单晶硅层、第三二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第四二氧化硅层；

或者，所述反射单元包括依次层叠设置在所述装饰表面上的硅层、第一钛层、铜层及第二钛层。

在其中一个实施例中，所述第一二氧化硅层的厚度为8nm～12nm，所述第一五氧化二铌层的厚度为68nm～72nm，所述第二二氧化硅层的厚度为88nm～92nm，所述单晶硅层的厚度为83nm～87nm，所述第三二氧化硅层的厚度为42nm～46nm，所述第二五氧化二铌层的厚度为50nm～54nm，所述第四二氧化硅层的厚度为8nm～12nm；

或者，所述硅层的厚度为3nm～7nm，所述第一钛层的厚度为6nm～10nm，所述铜层的厚度为18nm～22nm，所述第二钛层的厚度为48nm～52nm。