[发明专利]一种通过微波辐射低温制备聚酰亚胺薄膜的方法

权利要求书

1.一种通过微波辐射低温制备聚酰亚胺薄膜的方法，其特征在于，包括以下步骤：

第一步，制备聚酰亚胺前驱体溶液，得到A品；

第二步，对A品进行微波辐射处理，得到B品；

第三步，将B品进行铺膜处理，得到C品；

第四步，对C品进行加热处理，得到D品；

第五步，采用低温微波辐射对D品进行亚胺化处理，得到PI薄膜成品；

所述第五步中，温度为60～100℃；

第二步中，采用微波设备对A品进行微波辐射处理，控制温度保持在60～100℃，微波设备以900～1500W的微波辐射功率辐射15～25min；

所述B品的粘度为2000～6000cP，B品的固含量为20～30％；

第四步中，采用真空烘箱对C品进行加热处理，真空烘箱的温度控制在60～90℃，真空度保持在30～50kPa，加热时间为3～5小时；

第五步中，利用微波设备对D品进行亚胺化处理，控制微波设备的温度保持在60～100℃，并以1000～4000W的功率对D品进行微波辐射5～20小时。

2.根据权利要求1所述的一种通过微波辐射低温制备聚酰亚胺薄膜的方法，其特征在于，第一步中聚酰亚胺前驱体溶液的制备包括以下具体步骤：

A1、将非质子极性溶剂加入到烧瓶中，随后加入二元酸酐，搅拌均匀，得到a溶液；

A2、将二元胺或二异氰酸酯加入a溶液中，搅拌4-6小时，得到A品；

步骤A2中，二元胺或二异氰酸酯在30～60min内分3～5次加入a溶液中，且加料的时间间隔和每次的加料量均相同。

3.根据权利要求2所述的一种通过微波辐射低温制备聚酰亚胺薄膜的方法，其特征在于：二元酸酐与二元胺或二异氰酸酯的摩尔比例为1:0.95～1:1.05；二元酸酐与非质子极性溶剂之间的质量比为1:20～7:6。

4.根据权利要求2所述的一种通过微波辐射低温制备聚酰亚胺薄膜的方法，其特征在于：二元酸酐包括3,3',4,4'-二苯酮四酸二酐、4,4'-氧双邻苯二甲酸酐、3,3',4,4'-联苯四酸二酐或均苯四甲酸二酐中的一种或多种。

5.根据权利要求2所述的一种通过微波辐射低温制备聚酰亚胺薄膜的方法，其特征在于：非质子溶剂包括N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮或二甲基亚砜中的一种或多种。

6.根据权利要求2所述的一种通过微波辐射低温制备聚酰亚胺薄膜的方法，其特征在于：二元胺包括4,4'-二氨基二苯醚、对苯二胺或4,4'-二氨基二苯基甲烷中的一种或多种。

7.根据权利要求2所述的一种通过微波辐射低温制备聚酰亚胺薄膜的方法，其特征在于：二异氰酸酯包括甲苯二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯或六亚甲基二异氰酸酯中的一种或多种。