[发明专利]释放负离子的珐琅釉浆及使用其制备负离子珐琅板的方法有效
申请号: | 201910590446.7 | 申请日: | 2019-07-02 |
公开(公告)号: | CN110372208B | 公开(公告)日: | 2021-12-31 |
发明(设计)人: | 曹益亭;曹力力;邢翰学 | 申请(专利权)人: | 浙江开尔新材料股份有限公司 |
主分类号: | C03C8/00 | 分类号: | C03C8/00;C03C1/00;C23D5/02;C23D7/00 |
代理公司: | 北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11465 | 代理人: | 姜海荣 |
地址: | 321036 浙江省金*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 释放 负离子 珐琅 使用 制备 方法 | ||
1.一种释放负离子的珐琅釉浆,其特征在于,由下述重量份的原料组成:基釉200份、负离子材料0.2-6份、色料2-10份、助剂0.2-0.6份、悬浮剂10-16份、水90-110份;
所述负离子材料由下述重量份的原料组成:SiO230-40份、Al2O330-40份、B2O37-15份、BeO5-10份、Fe2O35-10份、MgO3-10份、La2O30.5-2份、Y2O30.5-2份、Yb2O30.5-2份、CeO20.5-2份;
所述助剂为氟硅酸钾、氯化钾、碳酸钾中的一种或几种的混合物;
所述悬浮剂为粘土。
2.根据权利要求1所述的一种释放负离子的珐琅釉浆,其特征在于,所述基釉为锑釉、钛釉或锆釉中的一种或几种的混合物。
3.一种负离子珐琅板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)称取原料:按照权利要求1或2所述释放负离子的珐琅釉浆的原料配比称取各原料;
(2)球磨:将步骤(1)称取的各原料装入球磨机的球磨罐中球磨,得釉浆;
(3)喷涂烘干:将步骤(2)所得釉浆过80-140目筛,再通过浸搪或湿法喷涂的方式把釉浆喷涂于钢板胚上,然后放入干燥箱中烘干,得板胚;
(4)烧成:将步骤(3)所得板胚放在烧成炉中烧成,得负离子珐琅板。
4.根据权利要求3所述的一种负离子的珐琅板的制备方法,其特征在于,步骤(2)所述球磨机的转速为1200-1600r/min,球磨时间为10-30min。
5.根据权利要求3所述的一种负离子的珐琅板的制备方法,其特征在于,步骤(2)所述釉浆的粗细度为0.1-0.25g,容重为1.62-1.76g/ml。
6.根据权利要求3所述的一种负离子的珐琅板的制备方法,其特征在于,步骤(3)所述钢板胚的厚度为1.0-2.5mm,所述烘干时间为3-5min,烘干温度为110-130℃。
7.根据权利要求3所述的一种负离子的珐琅板的制备方法,其特征在于,步骤(4)所述烧成温度为790-840℃,烧成时间为3.5-4.5min。
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