[发明专利]用于极紫外光辐射源设备的极紫外光收集器反射镜及极紫外光辐射源设备

权利要求书

1.一种用于一极紫外光(EUV)辐射源设备的EUV收集器反射镜，其特征在于，包含：

一EUV收集器反射镜主体，其上设置一反射层作为一反射表面；

一加热器，附接到或嵌入该EUV收集器反射镜主体，该加热器配置以加热与熔化沉积在该EUV收集器反射镜主体的该反射表面上的一金属；

一排泄结构，用于将熔化的该金属从该EUV收集器反射镜主体的该反射表面排泄到该EUV收集器反射镜主体的一背侧，该排泄结构包括在该反射表面处的一开口，该排泄结构进一步包括在该开口的一底部处提供具有一EUV反射表面的一支撑件，该支撑件具有一曲率，使得在具有该EUV反射表面的该支撑件处反射的EUV辐射以及在该EUV收集器反射镜主体上的该反射表面处反射的EUV辐射具有一相同的焦点；以及

一排泄孔，耦合到该排泄结构，其中该排泄结构与该排泄孔配置以使熔化的该金属通过重力流过该排泄结构到设置在该EUV收集器反射镜的最低位置处的该排泄孔。

2.根据权利要求1所述的EUV收集器反射镜，其特征在于，该排泄结构包括连接该开口与该排泄孔的一管道。

3.根据权利要求1所述的EUV收集器反射镜，其特征在于，该开口是穿过该EUV收集器反射镜主体的一狭缝。

4.根据权利要求1所述的EUV收集器反射镜，其特征在于，该开口包括以一同心方式排列的多个开口，并且该多个开口是狭缝或沟槽。

5.根据权利要求4所述的EUV收集器反射镜，其特征在于，以一同心方式排列的该多个开口通过一主干管道连接，该主干管道在该EUV收集器反射镜主体的该背侧上或在该EUV收集器反射镜主体中设置。

6.根据权利要求1所述的EUV收集器反射镜，其特征在于，该开口包括一主干管道以及从该主干管道分支的多个开口，并且该多个开口是狭缝或沟槽。

7.根据权利要求6所述的EUV收集器反射镜，其特征在于，该主干管道在该EUV收集器反射镜主体的该背侧上设置。

8.根据权利要求1所述的EUV收集器反射镜，其特征在于，该开口的一宽度是在从0.5mm至5mm的范围中。

9.根据权利要求1所述的EUV收集器反射镜，其特征在于，进一步包括用于控制该EUV收集器反射镜主体的加热的一加热器控制器。

10.一种极紫外光(EUV)辐射源设备，其特征在于，包含：

一EUV收集器反射镜；

一靶液滴产生器，用于产生一锡(Sn)液滴；

一可旋转碎屑收集机构；以及

一腔室，至少包围该EUV收集器反射镜及该可旋转碎屑收集机构，其中：

该EUV收集器反射镜包括：

一EUV收集器反射镜主体，其上设置一反射层作为一反射表面；

一加热器，附接到或嵌入该EUV收集器反射镜主体，该加热器配置以加热与熔化沉积在该EUV收集器反射镜主体的该反射表面上的一金属；

一排泄结构，用于将熔化的该金属从该EUV收集器反射镜主体的该反射表面排泄到该EUV收集器反射镜主体的一背侧，该排泄结构包括在该反射表面处的一开口，该排泄结构包括在该开口的一底部处的一EUV反射表面，并且该EUV反射表面具有一曲率，使得在该EUV反射表面处反射的EUV辐射以及在该EUV收集器反射镜主体上的该反射表面处反射的EUV辐射具有一相同的焦点；以及

一排泄孔，耦合到该排泄结构，其中该排泄结构与该排泄孔配置以使熔化的该金属通过重力流过该排泄结构到设置在该EUV收集器反射镜的最低位置处的该排泄孔。

11.根据权利要求10所述的EUV辐射源设备，其特征在于：

该排泄结构包括连接该开口与该排泄孔的一管道。

12.根据权利要求10所述的EUV辐射源设备，其特征在于，该开口包括以一同心方式排列的多个开口。

13.一种极紫外光(EUV)辐射源设备，其特征在于，包含：

一EUV收集器反射镜；

一靶液滴产生器，用于产生一锡(Sn)液滴；

一可旋转碎屑收集机构；

一腔室，至少包围该EUV收集器反射镜及该可旋转碎屑收集机构；

一金属再用系统，其中：

该EUV收集器反射镜包括：

一EUV收集器反射镜主体，其上设置一反射层作为一反射表面；

一加热器，附接到或嵌入该EUV收集器反射镜主体，该加热器配置以加热与熔化沉积在该EUV收集器反射镜主体的该反射表面上的一金属；

一排泄结构，用于将熔化的该金属从该EUV收集器反射镜主体的该反射表面排泄到该EUV收集器反射镜主体的一背侧；以及

一排泄孔，耦合到该排泄结构，其中该排泄结构与该排泄孔配置以使熔化的该金属通过重力流过该排泄结构到设置在该EUV收集器反射镜的最低位置处的该排泄孔；以及

一加热管，用于将从该排泄孔排泄的熔化的该金属导引至该金属再用系统并且进一步提供到该靶液滴产生器。