[发明专利]用于清洁静电吸盘的工具与方法

权利要求书

1.一种清洁静电吸盘的方法，其特征在于，包含：

通过一光学检查仪器的一第一部分朝一静电吸盘的一底面发射一辐射，其中该光学检查仪器位于该静电吸盘的该底面下方；

通过该光学检查仪器的一第二部分接收该辐射的一反射；

分析该辐射的该反射；

基于分析该辐射的该反射来判定该静电吸盘上是否存在一颗粒；

当判定该颗粒存在时，将一清洁工具移动至该静电吸盘上该颗粒的一位置；

使用该清洁工具的一可旋转平台从该静电吸盘释放该颗粒；以及

使用该清洁工具的一真空源将该颗粒吸入一排气管道中，其中该清洁工具包含围绕该可旋转平台且不覆盖该可旋转平台的顶表面的一壳体，该排气管道由该壳体和该可旋转平台的一侧壁被定义出，该壳体的最顶部与该可旋转平台的该顶表面共平面。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，其中分析该辐射的该反射包含：

检查该反射的一强度是否在一预定范围内。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，其中分析该辐射的该反射包含：

将来自该静电吸盘的该反射的一强度与一标准强度进行比较以识别该颗粒的该位置。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包含：

设置一虚设光罩于该静电吸盘上；以及

当判定该颗粒存在时，透过该虚设光罩来检测该颗粒的该位置。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，还包含：

在记录该颗粒的位置后移除该虚设光罩。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包含：

使该静电吸盘相对于光学检测仪器移动，以检测该静电吸盘上的该颗粒。

7.一种清洁静电吸盘的方法，其特征在于，包含：

使一清洁工具的一平台移向一静电吸盘的一底面；

使用该清洁工具的该平台以从该静电吸盘释放一颗粒；以及

在从该静电吸盘释放该颗粒后，使用与一排气管道气体连通的一真空源将该颗粒从该平台上方吸入围绕该平台的该排气管道中，其中该排气管道由围绕该平台并且由不覆盖该平台的顶表面的一壳体和该平台的一侧壁被定义出，该排气管道位于该静电吸盘的该底面下方，该壳体的最顶部与该平台的该顶表面共平面。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，还包含：

检测该颗粒的一位置，其中该平台的移动是根据该颗粒的该位置而执行。

9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，其中执行移动该平台而使得该平台接触该颗粒，并且从该静电吸盘释放该颗粒包含在该平台接触该颗粒后旋转该平台。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，其中在旋转该平台的期间，该平台不接触该静电吸盘。

11.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，其中从该静电吸盘释放该颗粒包含：

透过该平台上的一粘合材料来粘附该颗粒。

12.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，其中从该静电吸盘释放该颗粒包含：

从该平台向该静电吸盘发射一超音波。

13.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，其中从该静电吸盘释放该颗粒包含：

透过该平台上的一光催化剂材料来光降解该颗粒。

14.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，其中从该静电吸盘释放该颗粒是沿着一清洁路径而执行，该清洁路径实质上是一直线路径、一螺旋线路径或其组合。

15.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，其中在从该静电吸盘释放该颗粒后提供一吸力。