[发明专利]一种偏光片、电子设备及偏光片的制备方法

权利要求书

1.一种偏光片，其特征在于，包括：

基膜，其一侧表面定义有第一区域以及围绕在所述第一区域周围的第二区域，所述第一区域的所述基膜表面具有疏水性，所述第二区域的所述基膜表面具有亲水性；

线偏光膜，位于所述基膜的所述一侧表面，且当采用涂布的方式形成线偏光膜时，所述线偏光膜仅覆盖所述第二区域，所述线偏光膜对应所述第一区域的位置形成开口；

透明填充体，与所述线偏光膜同层设置，且覆盖所述第一区域，其高度与所述线偏光膜高度齐平；

相位差膜，与所述透明填充体材料相同且同时形成，覆盖所述线偏光膜和所述透明填充体远离所述基膜的一侧。

2.根据权利要求1所述的偏光片，其特征在于，

所述第一区域表面的水滴角为100°-120°，以使得所述透明填充体与所述第一区域的所述基膜连接。

3.根据权利要求1所述的偏光片，其特征在于，

所述第一区域的所述基膜表面设置有接着剂，所述透明填充体通过所述接着剂与所述第一区域的所述基膜连接。

4.一种电子设备，其特征在于，包括：

显示层；

权利要求1-3中任一项所述的偏光片，位于所述显示层一侧，且所述基膜可去除或保留，所述相位差膜相对所述线偏光膜靠近所述显示层；

光学器件，位于所述显示层背对所述相位差膜一侧，且所述光学器件的感光区与所述开口位置对应。

5.一种偏光片的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

在基膜一侧形成线偏光膜、透明填充体以及相位差膜；

其中，所述基膜一侧表面定义有第一区域以及围绕在所述第一区域周围的第二区域，所述第一区域的所述基膜表面具有疏水性，所述第二区域的所述基膜表面具有亲水性；所述线偏光膜位于所述基膜的所述一侧表面，且当采用涂布的方式形成线偏光膜时，所述线偏光膜仅覆盖所述第二区域，所述线偏光膜对应所述第一区域的位置形成开口；所述透明填充体与所述线偏光膜同层设置，且覆盖所述第一区域，其高度与所述线偏光膜高度齐平；所述相位差膜覆盖所述线偏光膜和所述透明填充体远离所述基膜一侧；其中，所述相位差膜与所述透明填充体材料相同且同时形成。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述在所述基膜一侧形成线偏光膜、透明填充体以及相位差膜之前，所述制备方法还包括：

对所述基膜的所述一侧表面进行处理，以使得所述基膜的所述第一区域的表面具有疏水性，所述第二区域的表面具有亲水性。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述在基膜一侧形成线偏光膜、透明填充体以及相位差膜，包括：

在所述基膜的所述一侧表面涂布线偏材料，所述线偏材料仅附着于所述第二区域的表面以形成所述线偏光膜；

在所述基膜一侧涂布相位差材料，所述相位差材料覆盖所述线偏光膜远离所述基膜一侧表面以及所述第一区域；其中，覆盖所述第一区域的所述相位差材料形成所述透明填充体，覆盖所述线偏光膜和所述透明填充体远离所述基膜一侧表面的所述相位差材料形成所述相位差膜。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述在所述基膜一侧涂布相位差材料之前，所述制备方法还包括：

对所述第一区域的所述基膜表面进行处理，以使得所述第一区域的所述基膜表面的水滴角为100°-120°；或，在所述第一区域表面涂覆一层接着剂。