[发明专利]图案描绘装置

说明书

曝光装置EX，其具有将根据描绘资料调变的光束(LB)投射至基板(P)上的曝光头部(14)，藉由使基板(P)移动于副扫描方向，于基板(P)上描绘对应描绘资料的图案。曝光装置(EX)具备描绘控制部(100)，其将待描绘于基板(P)的图案在副扫描方向的描绘倍率的变更位置，与以测量机构测量基板(P)的移动量变化的测量机构所测量的移动量对应地设定，在描绘倍率的变更位置设定在排列于副扫描方向的复数个像素中的特定像素的副扫描方向途中的情形，将在副扫描方向中特定像素的一个前的像素的描绘完毕的位置作为新变更位置，修正以测量机构测量的移动量与像素的尺寸的对应关系，而设定至描绘倍率的次一变更位置为止从描绘资料储存部(108)读出的像素资料的位址。

本发明为申请日2016年12月14日，申请号为“201680074442.8”，发明名称为“图案描绘装置”的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明关于将根据描绘资料的光束照射于基板等被照射体上以描绘图案的图案描绘装置。

背景技术

近年，是有尝试一种称作可印刷电子(printable electronics)，于以树脂或极薄玻璃构成可挠性(flexible)的基板上，藉由凹版方式、凸版方式、丝印(silk print)方式、或喷墨方式等印刷法、或者于涂布于可挠性基板上的感光层投射紫外线的光图案的光图案法，来形成显示器等电子元件。为了形成包含作为电子元件的薄膜电晶体(TFT)、IC晶片、感测器元件、电阻元件、电容元件等电路图案(单一配线层或多层配线层)，由于被要求图案的描绘解析能力高且高精度的定位精度，因此正在研究非使用印刷法而是使用光图案化法。

于日本特开2004－272167号公报中揭示了一种图案形成装置，是依据与以既定像素间节距(像素尺寸)规定的描绘资料，将雷射射束照射于基材上，且使射束与基材相对地二维移动，而于基材上TFT或彩色滤光器等图案。此特开2004－272167号公报的图案形成装置，是检测形成于基材(可挠性基材)上的前步骤图案周围的复数处上所形成的对准标记的各位置，根据其结果求出基材的伸缩(及变形)，依据所求出的伸缩(变形)修正描绘资料，藉此来进行已防止与前步骤图案的位置偏离的图案曝光。在进行该描绘资料的修正时，是依据基材的伸缩，修正细分化成在基材上使射束移动的方向(主扫描方向)与支承基材的移动载台的移动方向(副扫描方向)的像素的尺寸(像素节距)。

然而，例如在以辊对辊(Roll To Roll)方式于长边基材上连续形成图案的场合，基材的长边方向的伸缩非为一定，而有在各处变动的情形。亦即，即使在与长边基材上所形成的一个电子元件对应的图案形成区域(曝光区域)中，亦有在副扫描方向的伸缩非为一定的情形，即使在基材上的一个图案形成区域描绘图案的途中，为了避免与基底图案(前步骤图案)的叠合精度或总节距精度(图案形成区域全长的尺寸精度)劣化，必须将在副扫描方向的倍率修正细微地改变。

发明内容

本发明的第1态样是一种图案描绘装置，其具有将根据描绘资料调变的光束投射至基板上的曝光头部，藉由使所述基板移动于副扫描方向，于所述基板上描绘对应所述描绘资料的图案，其具备：移动机构，支承所述基板并使之移动于所述副扫描方向；测量机构，藉由较以所述描绘资料规定的像素在所述基板上的尺寸小的解析能力，测量所述基板的移动量变化；资料储存部，将排列于所述副扫描方向的复数个所述像素的各个像素的像素资料储存为所述描绘资料，且与以所述测量机构测量的所述基板的移动量相应地更新像素资料的读出位址；倍率设定部，将待描绘于所述基板的所述图案在所述副扫描方向的描绘倍率的变更位置，与以所述测量机构测量的所述移动量对应地设定；以及控制部，在所述描绘倍率的变更位置设定在排列于所述副扫描方向的复数个所述像素中的特定像素的所述副扫描方向途中的情形，将在所述副扫描方向中所述特定像素的一个前的像素的描绘完毕的位置作为新变更位置，修正以所述测量机构测量的所述移动量与所述像素的尺寸的对应关系，而设定至所述描绘倍率的次一变更位置为止从所述资料储存部读出的所述像素资料的位址。