[发明专利]图像处理方法及图像处理装置有效
申请号: | 201910458803.4 | 申请日: | 2019-05-29 |
公开(公告)号: | CN110175969B | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | 史超超 | 申请(专利权)人: | TCL华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G06T5/40 | 分类号: | G06T5/40;G06T5/00 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂;王中华 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图像 处理 方法 装置 | ||
1.一种图像处理方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤S1、获取原始图像,对所述原始图像进行对比度增强处理,得到过渡图像;
步骤S2、比较过渡图像和原始图像的亮度变化,并根据比较结果和预设的饱和度校正算法,对所述过渡图像进行饱和度校正,获得目标图像;
所述步骤S1中采用直方图均衡法对原始图像进行对比度增强处理;
所述步骤S1具体包括:
对原始图像中的全部像素进行直方图统计;
对统计得到的直方图进行裁切,增加直方图的平滑程度和细节数量;
对裁切后的直方图进行均衡化处理;
根据均衡化处理后的直方图得到过渡图像;
对原始图像中的全部像素进行直方图统计具体为对原始图像中的全部像素的RGB分量一起进行直方图统计;
所述预设的饱和度校正算法为:
其中,(Ri,Gi,Bi)为待校正像素在原始图像中的RGB分量值,(Rof,Gof,Bof)为待校正像素在目标图像中的RGB分量值,Lt为待校正像素所在色调平面尖点,Lo为待校正像素在过渡图像中的亮度值,Li为待校正像素在原始图像中的亮度值,(Rt1,Gt1,Bt1)=a5×(Ri,Gi,Bi),(Rt2,Gt2,Bt2)=1-a6×(1-Ri,1-Gi,1-Bi),a1=Lo/Li,a2=(1-Lo)/(1-Lt),a3=Lo/Lt,a4=(1-Lo)/(1-Li),a5=Lt/Li,a6=(1-Lt)/(1-Li)。
2.一种图像处理装置,其特征在于,包括获取模块(1)、与所述获取模块(1)相连的对比度增强模块(2)及与获取模块(1)和所述对比度增强模块(2)均相连的饱和度校正模块(3);
所述获取模块(1)用于获取原始图像,并将所述原始图像提供给对比度增强模块(2)及饱和度校正模块(3);
所述对比度增强模块(2)用于对所述原始图像进行对比度增强处理,得到过渡图像,并将过渡图像提供给饱和度校正模块(3);
所述饱和度校正模块(3)用于比较过渡图像和原始图像的亮度变化,并根据比较结果和预设的饱和度校正算法,对所述过渡图像进行饱和度校正,获得目标图像;
所述对比度增强模块(2)采用直方图均衡法对原始图像进行对比度增强处理;
所述对比度增强模块(2)对原始图像进行对比度增强处理具体包括:
对原始图像中的全部像素进行直方图统计;
对统计得到的直方图进行裁切,增加直方图的平滑程度和细节数量;
对裁切后的直方图进行均衡化处理;
根据均衡化处理后的直方图得到过渡图像;
对原始图像中的全部像素进行直方图统计具体为对原始图像中的全部像素的RGB分量一起进行直方图统计;
所述预设的饱和度校正算法为:
其中,(Ri,Gi,Bi)为待校正像素在原始图像中的RGB分量值,(Rof,Gof,Bof)为待校正像素在目标图像中的RGB分量值,Lt为待校正像素所在色调平面尖点,Lo为待校正像素在过渡图像中的亮度值,Li为待校正像素在原始图像中的亮度值,(Rt1,Gt1,Bt1)=a5×(Ri,Gi,Bi),(Rt2,Gt2,Bt2)=1-a6×(1-Ri,1-Gi,1-Bi),a1=Lo/Li,a2=(1-Lo)/(1-Lt),a3=Lo/Lt,a4=(1-Lo)/(1-Li),a5=Lt/Li,a6=(1-Lt)/(1-Li)。
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