[发明专利]基板处理装置

说明书

本发明涉及一种基板处理装置，其照射紫外线使基板干燥，并且，能够进行使基板的表面具有亲水性的处理。本发明提供的基板处理装置包括：灯组件，包括紫外线灯和反射罩，上述紫外线灯将紫外线照射到通过传送装置传送的基板，上述反射罩配置在上述紫外线灯的上侧，将从上述紫外线灯照射的紫外线反射向基板；气体供应排出装置，设置在上述基板的上侧，用于向上述基板的上面供应气体并排出沿着上述基板的上表面移动的流体；以及壳体，具有容纳空间，上述容纳空间容纳通过上述紫外线灯加热的气体。

技术领域

本发明涉及基板处理装置，更具体地涉及照射紫外线使基板干燥，并且，能够进行使基板的表面具有亲水性的处理的基板处理装置。

背景技术

通常，大面积基板的基板干燥装置具有气刀和排气结构，上述气刀分别设置在传送的基板的上面和下面，喷射干燥空气，上述排气结构将因该干燥空气的喷射而产生的雾排出到外部。

以往的排气结构是使用设置在干燥室的下部的排气扇来一并排气的结构。

以往的基板干燥装置构成为包括：干燥室；上部气刀和下部气刀，设置在干燥室的内部，分别位于传送的基板的上部和下部侧，将干燥空气喷射到基板；以及排气部，设置在干燥室的下部。

这种以往的基板干燥装置在传送基板的状态下，从上部气刀和下部气刀喷射干燥空气。当喷射这种高压的干燥空气时，将基板的表面的清洗水或清洗药液移动到基板的传送方向的相反侧，使基板干燥。

在这种情况下，通过高压的干燥空气的喷射液体颗粒与气流一起从基板分离，以雾状存在于槽的内部，这种雾通过设置在干燥室的下部的排气部排出到外部。

然而，通过设置在干燥室下部的排气部难以完全除去雾，并且，有可能发生雾再附着在基板的情况。

即，有可能发生如下情况：在槽的内部形成由于高压的干燥空气的喷射而引起的涡流，在涡流的作用下雾再附着到已通过上部气刀和下部气刀的基板。

因此，存在当雾再附着到基板时，水渍留在基板的问题，而且水渍作用为缺陷而可能导致工艺不良。

另外，利用气刀的干燥工艺之后，为了接下来所进行的PI涂层固定，对基板的表面进行改质的表面处理工艺中使用紫外线照射装置。

但是，由于基板在残留有雾的状态下通过紫外线照射装置进行表面处理工艺，因而存在基板的表面处理成品率降低的问题。

因此，需要开发出在干燥工艺后除去残留在基板上的雾的同时能够对基板的表面进行处理的基板处理装置。

现有技术文献

专利文献

专利文献：韩国授权实用新型公报第20-0452959号(2011.04.04授权公告，发明名称：大面积基板的干燥装置)

发明内容

发明要解决的问题

本发明要解决的问题是提供一种基板处理装置，其通过在基板的上侧配置供气室和排气室并在供气室的内部具备紫外线灯的单个装置，在除去残留在基板上的雾的同时能够对基板的表面进行使其具有亲水性的处理。

用于解决问题的手段